中國電子科技集團公司第四十八研究所龔俊獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中國電子科技集團公司第四十八研究所申請的專利一種用于刻蝕的圓形離子源獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115116811B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110290430.1，技術領域涉及：H01J37/08；該發明授權一種用于刻蝕的圓形離子源是由龔俊;佘鵬程;范江華設計研發完成，并于2021-03-18向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種用于刻蝕的圓形離子源在說明書摘要公布了：用于刻蝕的圓形離子源，包括放電弧室，放電弧室底部設有第一磁場組件，第一磁場組件外周設有第二磁場組件，放電弧室外周設有第三磁場組件且頂部設有柵網組件，第一磁場組件包括磁柱盤，磁柱盤上沿徑向設有多圈磁柱孔，磁柱孔中設有第一磁柱且各圈第一磁柱靠近放電弧室的一側設有第一導磁環，第二磁場組件包括第二導磁環、位于第二導磁環外周的第三導磁環及多根沿圓周方向布置于第二導磁環和第三導磁環之間的第二磁柱，第二磁柱沿徑向布置，第三磁場組件包括第四導磁環、位于第四導磁環上方的第五導磁環、及多組沿圓周方向布置于第四導磁環和第五導磁環之間的第三磁柱。本發明有利于調節放電弧室內磁場強度，進而調節大直徑范圍內的刻蝕均勻性。
本發明授權一種用于刻蝕的圓形離子源在權利要求書中公布了：1.一種用于刻蝕的圓形離子源，其特征在于：包括圓筒狀的放電弧室1，所述放電弧室1底部設有第一磁場組件2，所述第一磁場組件2外周設有第二磁場組件3，放電弧室1外周設有第三磁場組件4且頂部設有柵網組件5，所述第一磁場組件2包括磁柱盤21，所述磁柱盤21上沿徑向設有多圈磁柱孔22，所述磁柱孔22中設有第一磁柱23且各圈第一磁柱23上側設有第一導磁環24，所述第二磁場組件3包括第二導磁環31、位于第二導磁環31外周的第三導磁環32、以及多根沿圓周方向布置于第二導磁環31和第三導磁環32之間的第二磁柱33，各所述第二磁柱33沿徑向布置，所述第三磁場組件4包括第四導磁環41、位于第四導磁環41上方的第五導磁環42、以及多組沿圓周方向布置于第四導磁環41和第五導磁環42之間的第三磁柱43。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國電子科技集團公司第四十八研究所，其通訊地址為：410111 湖南省長沙市天心區新開鋪路1025號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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