德克薩斯儀器股份有限公司N·江獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉德克薩斯儀器股份有限公司申請的專利鉬層中的傾斜終端及其制備方法獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN107949904B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-26發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：201680029951.9，技術領域涉及：H01L21/3213；該發(fā)明授權鉬層中的傾斜終端及其制備方法是由N·江;E·C·斯圖爾特;N·S·德拉斯設計研發(fā)完成，并于2016-04-11向國家知識產權局提交的專利申請。
本鉬層中的傾斜終端及其制備方法在說明書摘要公布了：一種制備鉬層的傾斜終端的方法800，包括提供鉬層802，并對鉬層804施加光刻膠材料。光刻膠材料在散焦的條件下曝光生成掩膜806，曝光的光刻膠材料的邊緣對應于傾斜終端。用蝕刻材料蝕刻鉬層，其中蝕刻材料至少部分蝕刻在散焦條件下被曝光的光刻膠材料，且其中，蝕刻產生傾斜終端808。
本發(fā)明授權鉬層中的傾斜終端及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種制備鉬層的傾斜終端的方法，此方法包括： 提供所述鉬層； 對所述鉬層施加光刻膠材料； 在散焦條件下曝光所述光刻膠材料以生成光刻膠掩膜，曝光的光刻膠材料的邊緣對應于所述傾斜終端；以及 用蝕刻材料蝕刻所述鉬層，其中所述蝕刻材料至少部分蝕刻在所述散焦條件下被曝光的所述光刻膠材料，所述蝕刻產生所述傾斜終端； 其中所述蝕刻包括將所述鉬層和所述光刻膠材料暴露于包括氯氣與氧氣的氣體，并且氧氣對氯氣的比率在3:1和5:1之間； 其中所述蝕刻包括施加275瓦特和400瓦特之間的低變換耦合等離子； 其中所述蝕刻包括施加-125峰值伏特和-175峰值伏特之間的偏壓RF； 其中所述散焦條件在+-11μm和+-22μm之間； 其中所述蝕刻材料具有大于100：1的鉬相對氮化鋁的選擇性；并且 其中所述蝕刻材料具有大于100：1的鉬相對氧化物的選擇性。
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