東京毅力科創株式會社竹澤由裕獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東京毅力科創株式會社申請的專利膜形成方法和膜形成裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113053725B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202011476465.6，技術領域涉及：H01L21/02；該發明授權膜形成方法和膜形成裝置是由竹澤由裕;鈴木大介;林寬之;本山豐設計研發完成，并于2020-12-15向國家知識產權局提交的專利申請。
本膜形成方法和膜形成裝置在說明書摘要公布了：本發明涉及膜形成方法和膜形成裝置。[課題]提供可以形成大粒徑的多晶硅膜的技術。[解決方案]本公開的一方式的膜形成方法具備如下工序：在基底上形成依次層疊有界面層、主體層和表面層的層疊膜的工序；和，對前述層疊膜進行結晶處理的工序，前述主體層在前述進行結晶處理的工序中由比前述界面層還容易結晶的膜形成，前述表面層在前述進行結晶處理的工序中由比前述主體層還容易結晶的膜形成。
本發明授權膜形成方法和膜形成裝置在權利要求書中公布了：1.一種膜形成方法，其具備如下工序： 在基底上形成依次層疊有界面層、主體層和表面層的層疊膜的工序；和， 對所述層疊膜進行結晶處理的工序， 所述主體層在所述進行結晶處理的工序中由比所述界面層還容易結晶的膜形成， 所述表面層在所述進行結晶處理的工序中由比所述主體層還容易結晶的膜形成。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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