江蘇魯汶儀器有限公司葉聯獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉江蘇魯汶儀器有限公司申請的專利一種光刻膠剝離方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114442443B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-09-02發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202011188937.8,技術領域涉及:G03F7/42;該發明授權一種光刻膠剝離方法是由葉聯;彭泰彥;車東晨;吳愧;許開東;胡冬冬設計研發完成,并于2020-10-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種光刻膠剝離方法在說明書摘要公布了:本發明提出了一種光刻膠剝離方法,采用一具有光刻膠的晶圓,其包括:首先將晶圓放置于一刻蝕腔體內;刻蝕腔體內設置一開設有多個通孔的勻氣盤;晶圓置于勻氣盤和微波源之間;然后自晶圓的上方,先后向刻蝕腔體內通入氧氣和水,以對光刻膠的表層部分進行軟化過程;之后將通入的氧氣和水均排出;之后自晶圓的上方,向刻蝕腔體內通入0.2~0.5g水并同時啟動微波源,微波源將水氣電離成離子狀態,離子狀態的水氣經勻氣盤下降至晶圓,以吸收晶圓上附著的氯離子;最后按照預設干法去膠參數,進行干法去膠,以將光刻膠的表層部分及光刻膠剝離。本發明通過設置勻氣盤、軟化過程和干法去膠過程中的參數,提高了光刻膠的去膠均勻性。
本發明授權一種光刻膠剝離方法在權利要求書中公布了:1.一種光刻膠剝離方法,采用一具有光刻膠的晶圓,所述晶圓在光刻膠剝離前一工序為采用氯氣的干法刻蝕,其特征在于,包括以下步驟: 步驟01:將所述晶圓放置于一刻蝕腔體內;所述刻蝕腔體內設置一開設有多個通孔的勻氣盤;所述晶圓置于勻氣盤和微波源之間,所述勻氣盤包括N圈通孔單元,其中,N≥1;所述通孔單元包括沿圓周分布的若干所述通孔;所述通孔單元的半徑不同; 步驟02:自所述晶圓的上方,先后向所述刻蝕腔體內通入氧氣和水,以對所述光刻膠的表層部分進行軟化過程; 步驟03:將步驟02中通入的氧氣和水均排出; 步驟04:自所述晶圓的上方,向所述刻蝕腔體內通入0.2~0.5g水并同時啟動所述微波源,水在下降過程中形成水氣,所述微波源將水氣電離成離子狀態,離子狀態的水氣經勻氣盤下降至所述晶圓,以吸收所述晶圓上附著的氯離子; 步驟05:按照預設干法去膠參數,進行干法去膠,以將所述光刻膠的表層部分及光刻膠剝離;其中,所述預設干法去膠參數包括氧氣的流量和氮氣的流量;所述氧氣和氮氣均自所述晶圓的上方,通入所述刻蝕腔體內,所述氧氣流量為2000~4000sccm、氮氣流量為200~800sccm; 同時自所述晶圓的上方,繼續向所述刻蝕腔體內通入0.2~0.5g水,以吸收所述晶圓上附著的氯離子。
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