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龍圖騰網(wǎng)獲悉華為技術(shù)有限公司申請(qǐng)的專利射頻芯片、信號(hào)收發(fā)機(jī)和通信設(shè)備獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114204247B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-09-05發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202010975335.0，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01Q1/22；該發(fā)明授權(quán)射頻芯片、信號(hào)收發(fā)機(jī)和通信設(shè)備是由張魯奇;李昆;唐先鋒;駱彥行設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-09-16向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本射頻芯片、信號(hào)收發(fā)機(jī)和通信設(shè)備在說(shuō)明書摘要公布了：本申請(qǐng)?zhí)峁┝艘环N射頻芯片信號(hào)收發(fā)機(jī)和通信設(shè)備，該射頻芯片包括：芯片主體；耦合結(jié)構(gòu)，包括：諧振體，形成有諧振腔，所述諧振腔的內(nèi)壁為金屬制；再分布層，配置在所述諧振腔上方，包括RDL介質(zhì)層；輻射體，為金屬制，形成為中心對(duì)稱形狀，配置在所述介質(zhì)層的朝向所述諧振體的表面，收容在所述諧振腔內(nèi)；饋電線，一端與芯片主體連接，另一端插入所述諧振腔內(nèi)；封裝結(jié)構(gòu)，用于封裝所述芯片主體，并覆蓋所述再分布層，從而能夠使芯片主體產(chǎn)生的信號(hào)高效耦合至聚合物傳輸線中，由于上述結(jié)構(gòu)封裝在芯片內(nèi)，能夠降低因配置芯片與耦合結(jié)構(gòu)之間的連線產(chǎn)生的插損，進(jìn)而提高耦合效率，并且，能夠提升芯片與耦合結(jié)構(gòu)的集成度，便于規(guī)模化加工。

本發(fā)明授權(quán)射頻芯片、信號(hào)收發(fā)機(jī)和通信設(shè)備在權(quán)利要求書中公布了：1.一種射頻芯片，其特征在于，包括： 芯片主體200，用于生成電磁信號(hào)或處理電磁信號(hào)； 耦合結(jié)構(gòu)100，包括： 諧振體110，形成有諧振腔112和槽114，所述諧振腔112的內(nèi)壁為金屬制，所述諧振腔112的一端在所述諧振體110的頂面1102開口，所述諧振腔的另一端由金屬材料封閉，所述諧振腔112的截面形成為中心對(duì)稱形狀，所述槽114連通所述諧振體110的外壁與所述諧振腔112的內(nèi)壁； 再分布層RDL120，配置在所述頂面1102上方，包括RDL介質(zhì)層124； 輻射體130，為金屬制，形成為中心對(duì)稱形狀，配置在所述RDL介質(zhì)層124的朝向所述諧振體110的表面，收容在所述諧振腔112內(nèi)； 饋電線140，收容在所述槽114內(nèi)，一端與所述芯片主體200連接，另一端插入所述諧振腔112內(nèi)； 封裝結(jié)構(gòu)300，用于封裝所述芯片主體200，并覆蓋所述再分布層RDL120，其中，封裝結(jié)構(gòu)300上形成有用于收容金屬連接器的通孔310，其中，所述金屬連接器的一端與所述再分布層RDL120的背向所述諧振體110的表面抵接，所述金屬連接器的另一端用于連接聚合物傳輸線纜，所述通孔310的截面形成為中心對(duì)稱形狀； 其中，所述輻射體130的對(duì)稱中心、所述諧振腔112的對(duì)稱中心、通孔310的對(duì)稱中心同軸配置，且所述通孔310與所述諧振腔112之間的截面尺寸的偏差在第一預(yù)設(shè)范圍內(nèi)。

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