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龍圖騰網(wǎng)獲悉電子科技大學(xué)申請的專利基于定標(biāo)天線相位誤差分析的平面近場測量距離校準(zhǔn)方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN119375801B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-08發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202310284844.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G01R35/00；該發(fā)明授權(quán)基于定標(biāo)天線相位誤差分析的平面近場測量距離校準(zhǔn)方法是由趙華鵬;劉顯杰;胡俊設(shè)計研發(fā)完成，并于2023-03-22向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本基于定標(biāo)天線相位誤差分析的平面近場測量距離校準(zhǔn)方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了基于定標(biāo)天線相位誤差分析的平面近場測量距離校準(zhǔn)方法，屬于天線近場測量領(lǐng)域。本發(fā)明先利用定標(biāo)天線與探頭天線進(jìn)行平面近場測量；再利用被測天線與探頭天線進(jìn)行平面近場測量；然后仿真定標(biāo)天線在采樣面存在不同偏移時的數(shù)據(jù)；利用定標(biāo)天線的仿真和實(shí)測數(shù)據(jù)對采樣平面的真實(shí)位置進(jìn)行校正，二者最小相位誤差所對應(yīng)的仿真平面即為校正后的采樣面真實(shí)位置，達(dá)到對被測天線采樣平面真實(shí)位置進(jìn)行校正的目的。本發(fā)明校正精度高，且成本較低，適用于各種中小型天線的平面近場測量的校正。

本發(fā)明授權(quán)基于定標(biāo)天線相位誤差分析的平面近場測量距離校準(zhǔn)方法在權(quán)利要求書中公布了：1.基于定標(biāo)天線相位誤差分析的平面近場測量距離校準(zhǔn)方法，其特征在于，包括以下步驟： 步驟1、根據(jù)被測天線的平面近場測量方案，設(shè)定被測天線與探頭天線之間的距離為L1，近場采樣面上的采樣點(diǎn)的集合為P＝{Pn|n＝1,2,...,N}，其中Pnxn,yn,zn處采樣點(diǎn)的電場設(shè)為Exn,yn,zn，采樣面上的點(diǎn)數(shù)總共為N，n表示第n個采樣點(diǎn)，xn,yn,zn表示第n個采樣點(diǎn)在笛卡爾坐標(biāo)系下的位置； 步驟2、采用定標(biāo)喇叭天線進(jìn)行平面近場測量，設(shè)定定標(biāo)喇叭天線與探頭天線之間的真實(shí)距離為L2，獲得真實(shí)距離L2下的定標(biāo)天線平面近場E1xn,yn,zn；由于測量誤差，設(shè)定距離L1與真實(shí)距離L2存在誤差，因此在測量時，采樣點(diǎn)Pn的真實(shí)位置為Pnxn+Δx，yn+Δy，zn+Δz，對應(yīng)該采樣點(diǎn)處的平面近場為Exn+Δx，yn+Δy，zn+Δz，式中Δx、Δy和Δz分別為實(shí)際測量過程中，Pn點(diǎn)的真實(shí)位置與設(shè)定位置在笛卡爾坐標(biāo)系下x、y、z軸上的偏差； 步驟3、將被測天線放置于定標(biāo)喇叭天線所在位置，確保被測天線口徑面中心和定標(biāo)喇叭天線口徑面中心重合；由于步驟2和步驟3中采樣面大小、采樣間隔均一致，此時采樣點(diǎn)Pn處電場的真實(shí)位置與步驟2中一致為Pnxn+Δx，yn+Δy，zn+Δz，被測天線對應(yīng)采樣點(diǎn)Pn的平面近場為E2xn,yn,zn； 步驟4、對定標(biāo)喇叭天線進(jìn)行仿真，設(shè)定SΔx＝{Δx1,Δx2,...ΔxN1}，SΔy＝{Δy1,Δy2,...ΔyN2}，SΔz＝{Δz1,Δz2,...ΔzN3}分別為笛卡爾坐標(biāo)系下x、y、z軸上偏差的集合，仿真得到不同誤差下的平面近場式中1≤i≤N1,1≤j≤N2,1≤k≤N3； 步驟5、通過遍歷Δx、Δy和Δz比較定標(biāo)喇叭天線實(shí)際測量的平面近場E1xn,yn,zn與仿真平面近場的平均相位誤差： 當(dāng)平均相位誤差最小時所對應(yīng)的采樣點(diǎn)xn+Δxi，yn+Δyj，zn+Δzk為采樣面的真實(shí)位置，被測天線的平面近場E2xn,yn,zn對應(yīng)的真實(shí)位置被校正為xn+Δxi，yn+Δyj，zn+Δzk。

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