中國科學院金屬研究所李偉獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中國科學院金屬研究所申請的專利一種提高涂層/合金基體界面穩定性的Ni-Al/MCrAlY涂層及其制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116219373B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-08發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211721544.8，技術領域涉及：C23C14/32；該發明授權一種提高涂層/合金基體界面穩定性的Ni-Al/MCrAlY涂層及其制備方法是由李偉;李彤;姜肅猛;宮駿;孫超設計研發完成，并于2022-12-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種提高涂層/合金基體界面穩定性的Ni-Al/MCrAlY涂層及其制備方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種提高涂層合金基體界面穩定性的Ni?AlMCrAlY涂層及其制備方法，屬于高溫防護涂層技術領域。具體而言，就是在高溫合金基體上先沉積Ni?Al涂層，再沉積MCrAlY涂層，最后經真空退火使涂層成分擴散均勻。與單一的MCrAlY涂層相比，引入Ni?Al涂層能有效提高涂層與Ni基高溫合金尤其對于單晶高溫合金界面的穩定性，進而減輕涂層對合金基體力學性能的惡化、延長合金基體的服役壽命。本發明所涉及的提高涂層與Ni基高溫合金界面穩定性的涂層制備方法，工藝簡單且重復性好，易于實現工業化推廣。
本發明授權一種提高涂層/合金基體界面穩定性的Ni-Al/MCrAlY涂層及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種提高涂層合金基體界面穩定性的Ni-AlMCrAlY涂層的制備方法，其特征在于：該方法是在鎳基高溫合金基體上依次沉積Ni-Al涂層和MCrAlY涂層，再進行真空退火處理，具體包括以下步驟： 1對鎳基高溫合金基體進行表面處理； 2對基體進行偏壓轟擊清洗； 3沉積Ni-Al涂層：沉積Ni-Al涂層時使用NiAl合金靶材，靶材成分為：Al為3～15wt.％，Ni為余量； 4沉積MCrAlY涂層； 5將沉積有Ni-Al涂層和MCrAlY涂層的試樣進行真空退火處理。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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