東京毅力科創株式會社三枝直也獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東京毅力科創株式會社申請的專利基片處理裝置和基片運送方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114078729B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-08發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110907202.4，技術領域涉及：H01L21/677；該發明授權基片處理裝置和基片運送方法是由三枝直也;田邊廣太設計研發完成，并于2021-08-09向國家知識產權局提交的專利申請。
本基片處理裝置和基片運送方法在說明書摘要公布了：本發明提供能夠抑制設置于開口部的構造物的劣化的基片處理裝置和基片運送方法。基片處理裝置包括：具有供基片通過的內部空間的基片送入送出模塊，在將基片送出到被控制成與大氣壓相比為正壓的外部空間時，該內部空間被控制為大氣壓環境；開口部，其設置在該基片送入送出模塊，將內部空間與外部空間連通；閘門，其設置在開口部，具有運送空間；從外部空間側向開口部的緣部噴出吹掃氣體的噴出部；和經由與開口部不同的路徑對運送空間進行排氣的排氣口。
本發明授權基片處理裝置和基片運送方法在權利要求書中公布了：1.一種基片處理裝置，其特征在于，包括： 具有供基片通過的內部空間的基片送入送出模塊，在將所述基片送出到被控制成與大氣壓相比為正壓的外部空間時，所述內部空間被控制為大氣壓環境； 開口部，其設置在該基片送入送出模塊，將所述內部空間與所述外部空間連通； 對所述開口部設置的閘門，其具有運送空間； 從所述外部空間側向所述開口部的緣部噴出吹掃氣體的噴出部；和 經由與所述開口部不同的路徑對所述運送空間進行排氣的排氣口。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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