東京毅力科創株式會社鬼海貴也獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東京毅力科創株式會社申請的專利基片處理裝置、基片處理方法和存儲介質獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN109786286B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-08發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201811344240.8，技術領域涉及：H01L21/67；該發明授權基片處理裝置、基片處理方法和存儲介質是由鬼海貴也;大石雄三設計研發完成，并于2018-11-13向國家知識產權局提交的專利申請。
本基片處理裝置、基片處理方法和存儲介質在說明書摘要公布了：本發明提供一種對提高在基片的表面形成的有機覆膜的灰化處理的均勻性有效的基片處理裝置，基片處理裝置1包括：保持晶片W并使該晶片旋轉的旋轉保持部30，上述晶片在表面Wa具有有機覆膜；向晶片的表面照射有機覆膜的灰化用的光的光照射部40；以使氣流能夠通過晶片與光照射部之間的方式形成含氧氣體的氣流的氣流形成部；照射控制部114，其控制光照射部，以使得在氣流形成部在晶片與光照射部之間形成上述氣流的狀態下向晶片的表面照射上述光；和旋轉控制部115，其控制旋轉保持部，以使得在氣流形成部在晶片與光照射部之間形成上述氣流、光照射部向晶片的表面照射上述光的狀態下，使晶片旋轉。
本發明授權基片處理裝置、基片處理方法和存儲介質在權利要求書中公布了：1.一種基片處理裝置，其特征在于，包括： 保持基片并使該基片旋轉的旋轉保持部，所述基片在表面具有有機覆膜； 向由所述旋轉保持部保持的所述基片的表面照射所述有機覆膜的灰化用的光的光照射部； 以使氣流能夠通過由所述旋轉保持部保持的所述基片與所述光照射部之間的方式形成含氧氣體的氣流的氣流形成部； 照射控制部，其控制光照射部，以使得在所述氣流形成部在所述基片與所述光照射部之間形成所述含氧氣體的氣流的狀態下，向該基片的表面照射所述灰化用的光；和 旋轉控制部，其控制所述旋轉保持部，以使得在所述氣流形成部在所述基片與所述光照射部之間形成所述含氧氣體的氣流、所述光照射部向該基片的表面照射所述灰化用的光的狀態下，使該基片旋轉， 所述旋轉控制部控制所述旋轉保持部，以使得隨著從向所述基片開始照射所述灰化用的光時起的時間的經過，降低所述基片的轉速。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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