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龍圖騰網獲悉浙江眾凌科技有限公司申請的專利一種提升金屬掩膜版直線度的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120255262B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510757922.5，技術領域涉及：G03F1/38；該發明授權一種提升金屬掩膜版直線度的方法是由王鳳姣;管金榜;吳佩艷;王志欣;吳焰設計研發完成，并于2025-06-09向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種提升金屬掩膜版直線度的方法在說明書摘要公布了：本發明涉及顯示技術領域，提供了一種提升金屬掩膜版直線度的方法，包括：測量多條樣品掩膜版的多個指定點位的像素位置精度偏差；選擇多個指定點位的X坐標作為自變量，Y坐標及Y向偏差之和作為因變量進行擬合，或者，選擇多個指定點位的Y坐標作為自變量，X坐標及X向偏差之和作為因變量進行擬合，得到擬合表達式；在制造目標產品時，計算出目標產品的像素開口點位的理論坐標值所需的補償值，將目標產品的光罩設計版圖中的像素開口點位的理論坐標值替換為經過補償的實際坐標值，采用補償后光罩設計版圖曝光制造金屬掩膜版，解決因原材版型較差導致的金屬掩膜版直線度差，產品良率差且成本浪費的技術問題。

本發明授權一種提升金屬掩膜版直線度的方法在權利要求書中公布了：1.一種提升金屬掩膜版直線度的方法，其特征在于，包括： 測量多條樣品掩膜版的多個指定點位的像素位置精度偏差，所述像素位置精度偏差包括X向偏差及Y向偏差； 選擇所述多個指定點位的X坐標作為自變量，Y坐標及Y向偏差之和作為因變量進行擬合，或者，選擇所述多個指定點位的Y坐標作為自變量，X坐標及X向偏差之和作為因變量進行擬合，得到擬合表達式； 將目標產品的光罩設計版圖中像素開口點位的第一方向的理論坐標值帶入所述擬合表達式得到第二方向的擬合坐標值，通過所述擬合坐標值減去第二方向的理論坐標值得到補償值，其中，所述第一方向為X向時，所述第二方向為Y向，所述第一方向為Y向時，所述第二方向為X向； 取所述像素開口點位的補償值的負值加上所述第二方向的理論坐標值得到實際坐標值，將所述光罩設計版圖中所述第二方向的理論坐標值替換為實際坐標值。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人浙江眾凌科技有限公司，其通訊地址為：314400 浙江省嘉興市海寧市海昌街道海寧經濟開發區漕河涇路17號5幢101室；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。