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龍圖騰網(wǎng)獲悉全芯智造技術(shù)有限公司申請(qǐng)的專利用于光學(xué)鄰近校正的方法、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN120065619B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202510549996.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F1/36；該發(fā)明授權(quán)用于光學(xué)鄰近校正的方法、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)是由請(qǐng)求不公布姓名設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-04-28向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本用于光學(xué)鄰近校正的方法、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)在說明書摘要公布了：本公開的實(shí)施例涉及用于光學(xué)鄰近校正的方法、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)。該方法包括：確定設(shè)計(jì)版圖中的測(cè)試圖形的尺寸與將設(shè)計(jì)版圖作為掩模版圖在晶圓上形成的光刻圖形的量測(cè)尺寸之間的差值；基于測(cè)試圖形的邊界性質(zhì)以及差值對(duì)設(shè)計(jì)版圖中的測(cè)試圖形的邊界進(jìn)行預(yù)調(diào)節(jié)以形成預(yù)調(diào)節(jié)邊界；以及以預(yù)調(diào)節(jié)邊界作為起始邊界對(duì)設(shè)計(jì)版圖進(jìn)行光學(xué)鄰近校正。本公開的技術(shù)方案能夠極大地減少OPC修正程序運(yùn)行所需要的時(shí)間，并且能夠防止出現(xiàn)過度修正或者修正方向錯(cuò)誤的情況。

本發(fā)明授權(quán)用于光學(xué)鄰近校正的方法、電子設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于光學(xué)鄰近校正的方法，包括： 確定設(shè)計(jì)版圖中的測(cè)試圖形的尺寸與將所述設(shè)計(jì)版圖作為掩模版圖在晶圓上形成的光刻圖形的量測(cè)尺寸之間的差值，其中確定所述差值不考慮所述測(cè)試圖形中尺寸小于最小設(shè)計(jì)規(guī)則的結(jié)構(gòu)； 基于所述測(cè)試圖形的邊界性質(zhì)以及所述差值對(duì)所述測(cè)試圖形的邊界進(jìn)行預(yù)調(diào)節(jié)以形成預(yù)調(diào)節(jié)邊界，具體包括：基于所述測(cè)試圖形的邊界性質(zhì)確定所述測(cè)試圖形的類型，以及基于所述測(cè)試圖形的類型相應(yīng)地移動(dòng)所述測(cè)試圖形的邊界；以及 以所述預(yù)調(diào)節(jié)邊界作為起始邊界對(duì)所述設(shè)計(jì)版圖進(jìn)行光學(xué)鄰近校正。

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