舜宇奧來半導體光電(上海)有限公司沈健獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉舜宇奧來半導體光電(上海)有限公司申請的專利改善鬼像的光機結構及其制作方法、顯示波導裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115993725B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310129563.X，技術領域涉及：G02B27/01；該發明授權改善鬼像的光機結構及其制作方法、顯示波導裝置是由沈健;蘭順;陳遠設計研發完成，并于2023-02-16向國家知識產權局提交的專利申請。
本改善鬼像的光機結構及其制作方法、顯示波導裝置在說明書摘要公布了：本發明提供了一種改善鬼像的光機結構及其制作方法、顯示波導裝置。改善鬼像的光機結構包括：顯示面板，顯示面板上設置有多個像素，多個像素之間存在間隙；填充層，填充層設置在顯示面板具有多個像素的一側表面上，且僅多個像素之間的間隙處填充設置有填充層，填充層至少包括反射層和吸光層。本發明解決了現有技術中的光機結構存在鬼像改善困難的問題。
本發明授權改善鬼像的光機結構及其制作方法、顯示波導裝置在權利要求書中公布了：1.一種改善鬼像的光機結構的制作方法，其特征在于，所述光機結構包括顯示面板（10）和填充層，所述顯示面板（10）上設置有多個像素（20），多個所述像素（20）之間存在間隙；所述填充層設置在所述顯示面板（10）具有多個所述像素（20）的一側表面上，且僅多個所述像素（20）之間的間隙處填充設置有所述填充層，所述填充層至少包括反射層（31）和吸光層（32）；所述制作方法包括： 步驟S1：獲取所述光機結構的多個所述像素（20）的發光波長范圍； 步驟S2：根據多個所述像素（20）的發光波長范圍獲取與之匹配的所述吸光層（32）的材料； 步驟S3：獲取所述光機結構的所述顯示面板（10），根據所述顯示面板（10）上的多個所述像素（20）的高度、多個所述像素（20）之間的間隙大小和多個所述像素（20）與所述顯示面板（10）的邊緣的尺寸得到所述反射層（31）的尺寸； 步驟S4：采用沉積或者涂布的圖形化工藝在所述顯示面板（10）具有所述像素（20）的一側表面上生成所述反射層（31）； 步驟S5：采用沉積或者涂布的圖形化工藝在所述反射層（31）遠離所述顯示面板（10）的一側表面上生成所述吸光層（32）。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人舜宇奧來半導體光電(上海)有限公司，其通訊地址為：200120 上海市浦東新區康威路299號3樓8011號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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