日本發條株式會社千田隆広獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉日本發條株式會社申請的專利一種磁盤裝置用懸架的制造方法和制造裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115995239B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202211243014.7,技術領域涉及:G11B5/48;該發明授權一種磁盤裝置用懸架的制造方法和制造裝置是由千田隆広;入內嶌修;住吉純治設計研發完成,并于2022-10-11向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種磁盤裝置用懸架的制造方法和制造裝置在說明書摘要公布了:在根據一個實施例的磁盤裝置用懸架的制造方法中,通過將第1激光照射至懸架的撓曲件的外伸支架來確定使外伸支架在厚度方向上彎曲以形成彎曲部的第1位置,當外伸支架在第1位置處形成彎曲部時,計算出撓曲件上的舌形件的俯仰角和滾動角的預測值,確定使預測值接近預先設定的目標值的用第2激光施加到外伸支架的第2位置,在對第1位置進行第1激光照射形成彎曲部的同時,對第2位置進行第2激光照射。
本發明授權一種磁盤裝置用懸架的制造方法和制造裝置在權利要求書中公布了:1.一種制造方法,所述制造方法是一種包括具有凹坑的負載梁、與所述凹坑相對的舌形件、和含有與所述舌形件相連的外伸支架的撓曲件的磁盤裝置用懸架的制造方法, 通過將第1激光施加到所述外伸支架上,確定使所述外伸支架在厚度方向上彎曲形成彎曲部的第1位置, 當所述外伸支架在所述第1位置處形成所述彎曲部時,計算出所述舌形件的俯仰角和滾動角的預測值, 為了使所述預測值接近預先設定的目標值,在通過所述第1激光的照射形成所述彎曲部之前,確定第2激光施加到所述外伸支架的第2位置, 在對所述第1位置進行所述第1激光照射形成所述彎曲部的同時,對所述第2位置進行第2激光照射。
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