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龍圖騰網(wǎng)獲悉北京理工大學(xué)申請(qǐng)的專利一種基于插值函數(shù)的仿真預(yù)測(cè)密封泄漏方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115481534B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202211119787.4，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06F30/20；該發(fā)明授權(quán)一種基于插值函數(shù)的仿真預(yù)測(cè)密封泄漏方法是由王字滿;尹元浩;陳曉輝;張昊;吳晗;杜巍設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-09-15向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種基于插值函數(shù)的仿真預(yù)測(cè)密封泄漏方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及一種基于插值函數(shù)的仿真預(yù)測(cè)密封泄漏方法，屬于機(jī)械密封尤其是金屬間的密封技術(shù)領(lǐng)域。根據(jù)待測(cè)密封件建立符合高斯分布的二維矩陣，使用三次插值方法求解二維矩陣，得到二元插值函數(shù)，用二元插值函數(shù)對(duì)二維矩陣進(jìn)行加密，得到高密度二維矩陣，根據(jù)待測(cè)密封件的密封面間的擠壓壓力確定接觸面積比，再根據(jù)接觸面積比獲得臨界高度，根據(jù)獲得的臨界高度在高密度二維矩陣上判斷是否出現(xiàn)貫穿域，得到貫穿結(jié)果。

本發(fā)明授權(quán)一種基于插值函數(shù)的仿真預(yù)測(cè)密封泄漏方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基于插值函數(shù)的仿真預(yù)測(cè)密封泄漏方法，其特征在于該方法的步驟包括： 第一步，根據(jù)待測(cè)密封件建立符合高斯分布的二維矩陣，待測(cè)密封件的密封面包括上金屬面和下金屬面； 第二步，使用三次插值方法以第一步建立的二維矩陣為已知量，計(jì)算得到二元插值函數(shù)，并以得到的二元插值函數(shù)作為待測(cè)密封件密封面的擬合函數(shù)； 第三步，用第二步得到的二元插值函數(shù)對(duì)第一步建立的二維矩陣進(jìn)行加密，加密倍數(shù)為n，得到高密度二維矩陣； 第四步，根據(jù)待測(cè)密封件的密封面間的擠壓壓力確定接觸面積比； 第五步，根據(jù)第四步確定的接觸面積比獲得臨界高度，根據(jù)獲得的臨界高度在第三步確定的高密度二維矩陣上判斷是否出現(xiàn)貫穿域，得到貫穿結(jié)果； 第六步，重復(fù)第一步至第五步，重復(fù)次數(shù)不低于1000次，并統(tǒng)計(jì)得到的貫穿結(jié)果中貫穿的概率或未貫穿的概率； 所述的第四步中，接觸面積比γ為： 其中，μ1為上金屬面材質(zhì)的泊松比，μ2為下金屬面材質(zhì)的泊松比，E1為上金屬面材質(zhì)的體積模量，E2為下金屬面材質(zhì)的體積模量，P為待測(cè)密封件的上金屬面與下金屬面間的擠壓壓力，S1為上金屬面輪廓的主周期長(zhǎng)度，S2為下金屬面輪廓的主周期長(zhǎng)度，R1為上金屬面的表面粗糙度，R2為下金屬面的表面粗糙度； 所述的第五步中，臨界高度α的獲取方法為： γ＝a1a1+a2，其中，a1為高密度二維矩陣中大于臨界高度α值的數(shù)量，a2為高密度二維矩陣中小于臨界高度α值的數(shù)量。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人北京理工大學(xué)，其通訊地址為：100081 北京市海淀區(qū)中關(guān)村南大街5號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。