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龍圖騰網獲悉上海至純潔凈系統科技股份有限公司;合肥至匯半導體應用技術有限公司申請的專利一種簡諧運動式晶圓清洗干燥方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114496731B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111675322.2，技術領域涉及：H01L21/02；該發明授權一種簡諧運動式晶圓清洗干燥方法是由鄧信甫;陳新來;唐寶國;劉大威;毛明軍設計研發完成，并于2021-12-31向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種簡諧運動式晶圓清洗干燥方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種簡諧運動式晶圓清洗干燥方法，包括以下步驟：步驟一、將晶圓放置于晶圓清洗槽內；步驟二、向晶圓清洗槽內吹送氮氣，氮氣吹送完成后，向晶圓清洗槽內輸送超純水潤濕晶圓；步驟三、將超純水排出，向晶圓清洗槽內吹送異丙醇，向晶圓清洗槽內輸送超純水潤濕晶圓；步驟四、再次向晶圓清洗槽內吹送異丙醇，晶圓在擺動機構的帶動下做簡諧運動；步驟五、晶圓向晶圓清洗槽內吹加熱后的異丙醇與氮氣混合物，超純水排出；步驟六、晶圓做簡諧運動的狀態下持續向晶圓清洗槽內吹送異丙醇與氮氣混合物，直至晶圓表面干燥。本發明使得水分子在異丙醇分子受到不斷間歇性震蕩已經完成的循環氣流場力的控制下快速被帶離槽體而達到干燥效果。

本發明授權一種簡諧運動式晶圓清洗干燥方法在權利要求書中公布了：1.一種簡諧運動式晶圓清洗干燥方法，其特征在于，包括以下步驟： 步驟一、將晶圓放置于晶圓清洗槽內，并將晶圓清洗槽關閉形成密封結構； 步驟二、向晶圓清洗槽內吹送氮氣，氮氣吹送完成后，向晶圓清洗槽內輸送超純水潤濕晶圓； 步驟三、將超純水排出，向晶圓清洗槽內吹送異丙醇，向晶圓清洗槽內再次輸送超純水潤濕晶圓； 步驟四、將超純水排出，再次向晶圓清洗槽內吹送異丙醇，向晶圓清洗槽內再次輸送超純水潤濕晶圓，晶圓在擺動機構的帶動下做簡諧運動；所述擺動機構包括驅動電機、滑動軌道、滑動塊、軸接軌道及擺動臂，所述滑動軌道與所述軸接軌道平行設置，所述滑動軌道位于所述軸接軌道的上方，所述滑動塊滑動安裝于所述滑動軌道上，所述驅動電機用于控制所述滑動塊在所述滑動軌道上進行往復運動，所述擺動臂至少設置為兩個，所述擺動臂包括平行設置的第一支臂與第二支臂，所述第一支臂的上部沿長度方向設置有滑動槽，所述滑動塊上對應安裝有滑動輪，所述滑動輪安裝于所述滑動槽內，所述第一支臂的下端與所述軸接軌道上的連接點軸安裝，所述第二支臂的下端設置有晶圓承載區；所述擺動臂的擺動角度為15-30度； 步驟五、向晶圓清洗槽內吹加熱后的異丙醇與氮氣混合物，排出超純水；異丙醇與氮氣在混合容器內進行混合，所述混合容器內存放有異丙醇，所述混合容器的一側設置有氮氣連接口，所述氮氣連接口連接氮氣輸送管道，所述氮氣輸送管道連接加熱裝置； 步驟六、晶圓做簡諧運動的狀態下持續向晶圓清洗槽內吹送異丙醇與氮氣混合物，直至晶圓表面干燥后，將晶圓定位。

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