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龍圖騰網獲悉佳能株式會社申請的專利曝光裝置以及物品的制造方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114185249B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111052718.1，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權曝光裝置以及物品的制造方法是由山田雅教設計研發完成，并于2021-09-09向國家知識產權局提交的專利申請。

本曝光裝置以及物品的制造方法在說明書摘要公布了：本發明涉及曝光裝置以及物品的制造方法。為了提供能夠考慮載置臺的移動而校正載置臺的位置的測量結果從而提高曝光性能的曝光裝置，本發明涉及的曝光裝置具備：第1載置臺，具有第1反射面，一邊保持基板及原版中的一方，一邊以預定的頻率往返移動；第1測量部，通過對由第1反射面反射的第1測量光進行接收，測量第1載置臺的位置；第2載置臺，具有第2反射面，保持基板及原版中的另一方；第2測量部，通過對由第2反射面反射的第2測量光進行接收，測量第2載置臺的位置；第3測量部，比第2載置臺接近第1載置臺地配置，并且測量在內部傳輸的第3測量光的波長；以及控制部，根據第3測量部的測量結果和預定的頻率，校正第2測量部的測量結果。

本發明授權曝光裝置以及物品的制造方法在權利要求書中公布了：1.一種曝光裝置，以將形成于原版的圖案轉印到基板的方式對所述基板進行曝光，其特征在于，具備： 第1載置臺，配置有與第1方向垂直的第1反射面，并且一邊保持所述基板及所述原版中的一方，一邊在所述第1方向上以預定的頻率往返移動； 第1測量部，通過在朝向所述第1反射面射出第1測量光之后對由所述第1反射面反射的所述第1測量光進行接收，測量所述第1載置臺在所述第1方向上的位置； 第2載置臺，配置有與所述第1方向垂直的第2反射面，并且保持所述基板及所述原版中的另一方； 第2測量部，通過在朝向所述第2反射面射出第2測量光之后對由所述第2反射面反射的所述第2測量光進行接收，測量所述第2載置臺在所述第1方向上的位置； 第3測量部，比所述第2載置臺接近所述第1載置臺地配置，并且測量在內部傳輸的第3測量光的波長；以及 控制部，根據所述第3測量部的測量結果和所述預定的頻率，校正所述第2測量部的測量結果。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人佳能株式會社，其通訊地址為：日本東京；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。