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龍圖騰網(wǎng)獲悉東京毅力科創(chuàng)株式會社申請的專利基板處理裝置和中繼構(gòu)件的驅(qū)動方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114068280B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202110851982.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01J37/32；該發(fā)明授權(quán)基板處理裝置和中繼構(gòu)件的驅(qū)動方法是由佐佐木信峰;松浦伸設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-07-27向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本基板處理裝置和中繼構(gòu)件的驅(qū)動方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供在驅(qū)動部位也能夠準(zhǔn)確地測量壓力的基板處理裝置和中繼構(gòu)件的驅(qū)動方法。基板處理裝置具有腔室、屏蔽構(gòu)件以及中繼構(gòu)件。腔室具有利用導(dǎo)入的氣體執(zhí)行對基板的處理的處理室和對處理室內(nèi)的氣體進行排氣的排氣室。屏蔽構(gòu)件設(shè)于腔室的側(cè)壁附近的至少局部，屏蔽構(gòu)件將處理室與排氣室隔開，并且在屏蔽構(gòu)件的與腔室的側(cè)壁平行的壁面的局部具有連通處理室和排氣室的孔，屏蔽構(gòu)件能夠在上下方向上驅(qū)動。中繼構(gòu)件為中空，中繼構(gòu)件與連接于腔室的外部的計量儀器的配管連接，中繼構(gòu)件能夠在水平方向上驅(qū)動，在屏蔽構(gòu)件到達了上端時，中繼構(gòu)件被向腔室的中心方向驅(qū)動，從而中繼構(gòu)件的中心方向側(cè)的端部與屏蔽構(gòu)件連接，并且借助孔連通處理室和配管。

本發(fā)明授權(quán)基板處理裝置和中繼構(gòu)件的驅(qū)動方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基板處理裝置，其中， 該基板處理裝置具有： 腔室，其具有利用導(dǎo)入的氣體執(zhí)行對基板的處理的處理室和對所述處理室內(nèi)的氣體進行排氣的排氣室； 屏蔽構(gòu)件，其設(shè)于所述腔室的側(cè)壁附近的至少局部，該屏蔽構(gòu)件將所述處理室與所述排氣室隔開，并且在該屏蔽構(gòu)件的與所述腔室的側(cè)壁平行的壁面的局部具有連通所述處理室和所述排氣室的孔，該屏蔽構(gòu)件能夠在上下方向上驅(qū)動；以及 中空的中繼構(gòu)件，其與連接于所述腔室的外部的計量儀器的配管連接，該中繼構(gòu)件能夠在水平方向上驅(qū)動，在所述屏蔽構(gòu)件到達了上端時，該中繼構(gòu)件被向所述腔室的中心方向驅(qū)動，從而該中繼構(gòu)件的所述中心方向側(cè)的端部與所述屏蔽構(gòu)件連接，并且借助所述孔連通所述處理室和所述配管。

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