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龍圖騰網(wǎng)獲悉廣州集成電路技術(shù)研究院有限公司申請的專利存儲單元及其陣列和制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN115223925B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-12發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202110427556.9，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/768；該發(fā)明授權(quán)存儲單元及其陣列和制備方法是由王憲程設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-04-20向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本存儲單元及其陣列和制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種存儲單元及其陣列和制備方法，存儲單元包括：設(shè)置有源結(jié)構(gòu)和柵極結(jié)構(gòu)的多個晶體管；位于所述多個晶體管上方的處于同一高度的相互隔開的多個區(qū)域金屬層；連接晶體管和區(qū)域金屬層的多個導(dǎo)電插塞，部分或全部的所述導(dǎo)電插塞采用一連續(xù)的聯(lián)接構(gòu)件，以實(shí)現(xiàn)所述柵極結(jié)構(gòu)和或有源結(jié)構(gòu)與對應(yīng)的區(qū)域金屬層的電連接；本發(fā)明采用單一的聯(lián)接構(gòu)件，節(jié)省了傳統(tǒng)接觸構(gòu)件和導(dǎo)通構(gòu)件的錯位面積，進(jìn)一步地，提供8管的存儲單元中四個晶體管共用第三柵極結(jié)構(gòu)作為晶體管柵極結(jié)構(gòu)并形成連通，第六接觸構(gòu)件與三對晶體管T2和T6、T3和T7、T4和T8共用的有源結(jié)構(gòu)區(qū)連接，第六接觸構(gòu)件可作為數(shù)據(jù)節(jié)點(diǎn)，以實(shí)現(xiàn)6個晶體管之間的數(shù)據(jù)傳輸。

本發(fā)明授權(quán)存儲單元及其陣列和制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種存儲單元，其特征在于，包括： 設(shè)置有源結(jié)構(gòu)和柵極結(jié)構(gòu)的多個晶體管； 位于所述多個晶體管上方的處于同一高度的相互隔開的多個區(qū)域金屬層； 連接晶體管和區(qū)域金屬層的多個導(dǎo)電插塞，部分或全部的所述導(dǎo)電插塞采用一連續(xù)的聯(lián)接構(gòu)件，以實(shí)現(xiàn)所述柵極結(jié)構(gòu)和或有源結(jié)構(gòu)與對應(yīng)的區(qū)域金屬層的電連接； 各單元的最底層是一基體，所述基體襯底層，襯底層上設(shè)置柵極結(jié)構(gòu)和有源結(jié)構(gòu)，阻擋層抵接?xùn)艠O結(jié)構(gòu)的側(cè)壁，所述阻擋層與柵極結(jié)構(gòu)高度平齊，介質(zhì)層填充阻擋層的凹槽且與柵極結(jié)構(gòu)高度平齊；終止層覆蓋在柵極結(jié)構(gòu)、阻擋層、介質(zhì)層的上方，終止層上方設(shè)置介質(zhì)層，介質(zhì)層包括下層間介質(zhì)層和上層間介質(zhì)層，上層間介質(zhì)層上設(shè)置停止層，蝕刻停止層并填充形成多個金屬層； 在柵極結(jié)構(gòu)上方開設(shè)貫穿所述下層間介質(zhì)層和上層間介質(zhì)層且暴露該柵極結(jié)構(gòu)的開口，在開設(shè)的開口中分批次填充形成堆疊的至少三層聯(lián)接結(jié)構(gòu)，先形成與柵極結(jié)構(gòu)抵接的最底部的一層聯(lián)接結(jié)構(gòu)，最后形成與金屬層抵接的最頂部的一層聯(lián)接結(jié)構(gòu)，將聯(lián)接構(gòu)件拆分為多層聯(lián)接結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)，采用多層聯(lián)接結(jié)構(gòu)能避免開口深寬比過大所帶來的填充間隙問題，提高填充質(zhì)量。

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