朗姆研究公司克里斯托弗·金博爾獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉朗姆研究公司申請的專利用于襯底處理系統的具有降低電容變化的可移動邊緣環獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114207769B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-12發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080056085.9，技術領域涉及：H01J37/32；該發明授權用于襯底處理系統的具有降低電容變化的可移動邊緣環是由克里斯托弗·金博爾;赫馬·斯沃普·莫皮迪維;薩拉瓦納普里亞·西里拉曼;湯姆·A·坎普;達雷爾·埃利希;安東尼·孔特雷拉斯;奇亞拉·海倫娜·凱瑟琳娜·賈曼科·麥克弗森設計研發完成，并于2020-08-04向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于襯底處理系統的具有降低電容變化的可移動邊緣環在說明書摘要公布了：一種用于等離子體處理系統的可移動邊緣環系統包括：頂部邊緣環；以及第一邊緣環，其布置于所述頂部邊緣環下方。第二邊緣環由導電材料制成，并且包括上部、中間部和下部。所述頂部邊緣環和所述第二邊緣環被配置成在被升降銷向上偏移時于豎直方向上相對于襯底支撐件和所述第一邊緣環移動。所述第二邊緣環被布置于所述頂部邊緣環下方并且在所述第一邊緣環的徑向外側。
本發明授權用于襯底處理系統的具有降低電容變化的可移動邊緣環在權利要求書中公布了：1.一種用于等離子體處理系統的邊緣環，所述邊緣環包括： 第一環形體，其被配置為在等離子體處理期間圍繞襯底支撐件； 上表面； 下表面； 徑向內表面； 徑向外表面；以及 N個間隔物，其布置在所述邊緣環的所述徑向外表面上的N個間隔位置，以在等離子體處理期間，當所述邊緣環被加熱和冷卻時，減少所述邊緣環的所述第一環形體和與所述邊緣環分離的第二邊緣環之間的預定間隙的變化，其中N為大于或等于3且小于或等于8的整數， 其中，所述N個間隔物從所述第一環形體的所述徑向外表面徑向向外延伸到足以限制所述邊緣環的所述第一環形體在等離子體處理期間的加熱和冷卻期間相對于第二邊緣環的移動的距離。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人朗姆研究公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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