南京埃米儀器科技有限公司請求不公布姓名獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉南京埃米儀器科技有限公司申請的專利一種全內反射晶圓檢測裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120314333B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510797688.9，技術領域涉及：G01N21/95；該發明授權一種全內反射晶圓檢測裝置是由請求不公布姓名設計研發完成，并于2025-06-16向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種全內反射晶圓檢測裝置在說明書摘要公布了：本發明公開了一種全內反射晶圓檢測裝置，包括相機、激光、反射棱鏡、圓形光闌、支撐柱和折射錐，激光進入反射棱鏡改變方向為豎直向上，在豎直向上的激光光路上設置遮擋的激光中心部分形成環形激光的圓形光闌，環形激光通過折射錐折射進入待測的晶圓的內部，在待測的晶圓內部進行全反射，當遇到晶圓內部缺陷以及表面臟污，則由其散射出晶圓，被相機檢測，支撐柱位于折射錐與圓形光闌之間，待測的晶圓置于折射錐上；相機設置在待測的晶圓的上方；折射錐的錐角使得折射進入待測的晶圓的反射角為大于全反射角。優點，本發明裝置，通過激光進入晶圓，由中心向晶圓外圈進行全反射探測，達到比從晶圓邊緣進行探測的方法效率更高、探測精度更高。
本發明授權一種全內反射晶圓檢測裝置在權利要求書中公布了：1.一種全內反射晶圓檢測裝置，其特征在于，包括相機（1）、激光（2）、反射棱鏡（3）、圓形光闌（4）、支撐柱（5）和折射錐（6），激光（2）進入反射棱鏡（3）改變方向為豎直向上，在豎直向上的激光光路上設置遮擋的激光中心部分形成環形激光的圓形光闌（4），環形激光（8）通過折射錐（6）折射進入待測的晶圓（7）的內部，在待測的晶圓（7）內部進行全反射，當遇到晶圓內部缺陷以及表面臟污，則由其散射出晶圓，被相機（1）檢測，支撐柱（5）位于折射錐（6）與圓形光闌（4）之間，待測的晶圓（7）置于折射錐（6）上；所述相機（1）設置在待測的晶圓（7）的上方；所述折射錐（6）的錐角使得折射進入待測的晶圓（7）的反射角為大于全反射角； 所述折射錐（6）的錐角的計算公式如下： （9） 其中，為折射進入待測的晶圓（7）的反射角，為空氣折射率，為折射錐（6）的折射率，為待測的晶圓（7）的折射率。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人南京埃米儀器科技有限公司，其通訊地址為：211899 江蘇省南京市江北新區研創園華富路1號數智溪谷科創廣場2號5層；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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