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龍圖騰網(wǎng)獲悉中國科學院長春光學精密機械與物理研究所申請的專利基于神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的像質(zhì)指標決策拋光工藝參數(shù)的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN120068675B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202510544987.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06F30/27；該發(fā)明授權(quán)基于神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的像質(zhì)指標決策拋光工藝參數(shù)的方法是由李龍響;劉夕銘;李興昶;程強;張峰;張學軍設(shè)計研發(fā)完成，并于2025-04-28向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本基于神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的像質(zhì)指標決策拋光工藝參數(shù)的方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及光學加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基于神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的像質(zhì)指標決策拋光工藝參數(shù)的方法。包括：根據(jù)具體需求確定光學系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)參數(shù)；在光學系統(tǒng)中標記需要進行工藝決策的光學元件，記錄歷史加工數(shù)據(jù)；搭建光學系統(tǒng)，將被標記的光學元件放置在光學系統(tǒng)中，調(diào)試獲得實際像質(zhì)指標并收集與理想系統(tǒng)像質(zhì)相比的惡化程度；重復(fù)上述步驟得到數(shù)據(jù)集；將像質(zhì)惡化程度數(shù)據(jù)集作為輸入、將元件的工藝參數(shù)作為輸出，輸入模塊化卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)進行訓練，得到預(yù)測網(wǎng)絡(luò)模型；當光學系統(tǒng)元件制造任務(wù)到來時，將系統(tǒng)類型和像質(zhì)惡化程度允差，輸入至預(yù)測網(wǎng)絡(luò)模型中，得到滿足所述像質(zhì)惡化程度允差的拋光工藝參數(shù)。優(yōu)點在于：決策迅速、計算耗時少、易懂程度高。

本發(fā)明授權(quán)基于神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的像質(zhì)指標決策拋光工藝參數(shù)的方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種基于神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)的像質(zhì)指標決策拋光工藝參數(shù)的方法，其特征在于：具體包括如下步驟： S1.根據(jù)具體需求，確定光學系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)參數(shù)；所述光學系統(tǒng)結(jié)構(gòu)參數(shù)包括光學系統(tǒng)的類型，以及光學系統(tǒng)內(nèi)所有光學元件的相對位置、擺放角度、元件面型和基底材質(zhì)； S2.在所述光學系統(tǒng)中標記需要進行工藝決策的光學元件，記錄光學元件的歷史加工數(shù)據(jù)；歷史加工數(shù)據(jù)包括工藝參數(shù)、環(huán)境參數(shù)、以及工藝參數(shù)對應(yīng)的制造誤差數(shù)據(jù)； S3.搭建所述光學系統(tǒng)，將步驟S2中被標記的光學元件放置在所述光學系統(tǒng)中，調(diào)試獲得實際像質(zhì)指標，并收集與理想系統(tǒng)像質(zhì)相比的惡化程度數(shù)據(jù)； S4.重復(fù)步驟S2~S3，得到光學元件的工藝參數(shù)數(shù)據(jù)集及像質(zhì)惡化程度數(shù)據(jù)集； S5.將像質(zhì)惡化程度數(shù)據(jù)集作為輸入數(shù)據(jù)集，將元件的工藝參數(shù)作為輸出數(shù)據(jù)集，輸入模塊化卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)進行訓練，得到光學元件拋光工藝參數(shù)預(yù)測網(wǎng)絡(luò)模型； 所述模塊化卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)包括主干卷積層和動態(tài)權(quán)重層；所述主干卷積層用于提取像質(zhì)惡化程度數(shù)據(jù)的特征；所述動態(tài)權(quán)重層根據(jù)光學系統(tǒng)類別動態(tài)加載不同的權(quán)重，用于將特征映射到工藝參數(shù)空間； 訓練優(yōu)化過程如下： S501.根據(jù)光學系統(tǒng)特征向量進行權(quán)重檢索，權(quán)重索引k由如下公式確定： 其中，x為光學系統(tǒng)特征向量；函數(shù)用于找到使得函數(shù)取得最大值的輸入?yún)?shù)值，或在數(shù)據(jù)集中返回最大值元素的索引； S502.將像質(zhì)惡化程度數(shù)據(jù)輸入至模塊化卷積神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)中；主干卷積層提取像質(zhì)惡化數(shù)據(jù)的特征F： 其中，F(xiàn)為主干卷積層提取得到的像質(zhì)惡化程度數(shù)據(jù)特征，同時也是動態(tài)權(quán)重層的輸入；Conv代表卷積函數(shù)； 將主干卷積層輸出的像質(zhì)惡化數(shù)據(jù)的特征F展平為向量f，通過動態(tài)加載的權(quán)重PT k映射至工藝參數(shù)空間，計算工藝參數(shù)預(yù)測值；計算公式如下： 其中，為ReLU激活函數(shù)，偏置項，為工藝參數(shù)預(yù)測值； S503.使用預(yù)測所得工藝參數(shù)與實際工藝參數(shù)之間的差值作為損失函數(shù)； S6.根據(jù)工藝決策任務(wù)的要求，獲取光學元件的像質(zhì)惡化程度允差，將像質(zhì)惡化程度允差的最值作為像質(zhì)惡化程度數(shù)據(jù)輸入至光學元件拋光工藝參數(shù)預(yù)測網(wǎng)絡(luò)模型中，得到滿足所述像質(zhì)惡化程度允差的拋光工藝參數(shù)。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人中國科學院長春光學精密機械與物理研究所，其通訊地址為：130033 吉林省長春市經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)東南湖大路3888號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。