杭州北水未來科技有限公司吳彩瓊獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉杭州北水未來科技有限公司申請的專利用于電解銅箔生產廢水深度處理的方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119977263B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510445617.2,技術領域涉及:C02F9/00;該發明授權用于電解銅箔生產廢水深度處理的方法是由吳彩瓊;楊茂東;關春雨設計研發完成,并于2025-04-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于電解銅箔生產廢水深度處理的方法在說明書摘要公布了:本申請提供了一種用于電解銅箔生產廢水深度處理的方法,涉及工業污水處理技術領域,本申請的方法包括將待處理的廢水依次進行電化學氧化處理、混凝沉淀處理和折點加氯處理的步驟;電化學氧化處理具體為:將廢水引入反應器,并將該工藝段廢水的pH值調節至第一目標值,基于控制反應器電極的加電情況實現電化學氧化處理;混凝沉淀處理具體為:將電化學氧化反應器的出水引入混凝反應池,并將該工藝段廢水的pH值調節至第二目標值,之后投加混凝劑同時進行攪拌以使反應池中發生絮凝反應,絮凝反應后的廢水進入沉淀池中進行沉淀分離。本申請的技術方案,采用具體的物化處理方式,可對不具備協同處理條件的銅箔廢水實現有效深度處理。
本發明授權用于電解銅箔生產廢水深度處理的方法在權利要求書中公布了:1.一種用于電解銅箔生產廢水深度處理的方法,其特征在于,所述方法包括將待處理的廢水依次進行電化學氧化處理、混凝沉淀處理和折點加氯處理的步驟; 其中,所述電化學氧化處理在電化學氧化反應器中進行,具體為:將廢水引入電化學氧化反應器,并將電化學氧化反應器內廢水的pH值調節至第一目標值,基于控制反應器電極的加電情況進行電化學氧化處理; 所述混凝沉淀處理在混凝反應池及沉淀池中進行,具體為:將電化學氧化反應器的出水引入混凝反應池,并將混凝反應池內廢水的pH值調節至第二目標值,之后投加混凝劑同時進行攪拌以使反應池中發生絮凝反應,絮凝反應后的廢水進入沉淀池中進行沉淀分離; 其中,所述電化學氧化處理過程中,通過在線監測儀表實時獲取進出水COD、氨氮及金屬陽離子形態分布數據,采用分階段差異化的控制方式控制所述反應器電極的加電情況;根據污染物降解動力學特性將電化學氧化處理過程劃分為快速氧化期、穩態反應期和深度處理期三個階段,所述采用分階段差異化的控制方式控制所述反應器電極的加電情況,具體包括: 當檢測到COD大于第一預定值時進入快速氧化期,啟動脈沖式高電流密度處理并耦合間歇曝氣,所述脈沖式高電流密度為30-50mAcm2,占空比30-50%,脈沖頻率0.5-2Hz;當氨氮降解速率下降至初始速率的預定百分比時切換至穩態反應期,動態調節電流密度;當絡合態金屬占比小于第二預定值時轉入深度處理期,切換為低電流密度運行,所述低電流密度為10-20mAcm2。
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