長春理工大學董科研獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉長春理工大學申請的專利紅外成像冷輻射效應矯正方法、系統、設備以及存儲介質獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119850491B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510345010.7,技術領域涉及:G06T5/80;該發明授權紅外成像冷輻射效應矯正方法、系統、設備以及存儲介質是由董科研;張雷;宋延嵩;張功;陳啟夢;劉天賜設計研發完成,并于2025-03-24向國家知識產權局提交的專利申請。
本紅外成像冷輻射效應矯正方法、系統、設備以及存儲介質在說明書摘要公布了:紅外成像冷輻射效應矯正方法、系統、設備以及存儲介質,屬于紅外圖像去噪技術領域,解決了現有的方法會導致紅外圖像光斑邊緣附近的場景信息無法被徹底抑制,從而干擾后續操作對紅外圖像的處理結果的問題。獲取包括冷輻射光斑的原始紅外圖像;分別對高斯函數的多個參數進行調整后,基于調整后的高斯函數讀取原始紅外圖像,將讀取后的紅外圖像進行預處理;基于巴特沃斯函數對預處理后的紅外圖像進行擬合,構建出擬合函數;基于構建出的擬合函數的參數以及巴特沃斯函數構建紅外圖像的冷輻射光斑特征;將冷輻射光斑特征與原始紅外圖像進行差分處理,完成對紅外圖像中的冷輻射光斑的矯正。
本發明授權紅外成像冷輻射效應矯正方法、系統、設備以及存儲介質在權利要求書中公布了:1.紅外成像冷輻射效應矯正方法,其特征在于,包括以下步驟: 步驟S1,獲取包括冷輻射光斑的原始紅外圖像; 步驟S2,分別對高斯函數的多個參數進行調整后,基于調整后的高斯函數讀取步驟S1所述的原始紅外圖像,將讀取后的紅外圖像進行預處理; 步驟S3,基于巴特沃斯函數對步驟S2預處理后的紅外圖像進行擬合,構建出擬合函數; 步驟S4,基于步驟S3所述的構建出的擬合函數的參數以及巴特沃斯函數構建紅外圖像的冷輻射光斑特征; 步驟S5,將步驟S4所述的冷輻射光斑特征與原始紅外圖像進行差分處理,完成對紅外圖像中的冷輻射光斑的矯正; 所述的步驟S2中,所述的分別對高斯函數的多個參數進行調整,具體為: 分別對高斯函數的標準差和濾波窗口進行調整; 所述的高斯函數的標準差,具體為: 其中,σ為高斯函數的標準差,N為高斯函數的濾波窗口,n為正整數; 所述的高斯函數的濾波窗口,具體為: N=n*σ+1。
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