上海婷伊美科技有限公司彭文革獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉上海婷伊美科技有限公司申請的專利一種多層光學系統及其光路控制方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119606643B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510147018.2,技術領域涉及:A61F9/008;該發明授權一種多層光學系統及其光路控制方法是由彭文革設計研發完成,并于2025-02-11向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種多層光學系統及其光路控制方法在說明書摘要公布了:本發明涉及多層光學系統技術領域,是一種多層光學系統及其光路控制方法,具體包括:第一外部光路模塊、光束分層控制模塊和第二外部光路模塊;所述第一外部光路模塊用于調整激光束的偏振方向;所述光束分層控制模塊對激光束進行分束和合束處理;所述第二外部光路模塊用于對合束后的激光束進行聚焦和掃描控制,本發明解決了現有技術中,無法對待切割目標物同時進行雙層切割,而導致的切割時間長和切割率不可控問題。
本發明授權一種多層光學系統及其光路控制方法在權利要求書中公布了:1.一種多層光學系統,其特征在于,所述多層光學系統包括: 第一外部光路模塊、光束分層控制模塊和第二外部光路模塊; 所述第一外部光路模塊用于調整激光束的偏振方向; 所述光束分層控制模塊對激光束進行分束和合束處理;所述光束分層控制模塊包括:第一偏振分光棱鏡(5)、主光路控制單元、支光路控制單元、第二偏振分光棱鏡(9)和凸透鏡(13); 其中,所述主光路控制單元包括:沿光路依次布置的第二45°反射鏡(6)、第一凹透鏡(7)和玻璃板(8); 所述支光路控制單元包括:沿光路依次布置的支光路光閘(10)、第二凹透鏡(11)和第三45°反射鏡(12); 所述玻璃板(8)用于增加主光路的光程; 所述支光路光閘(10)用于控制支光路的通斷; 所述第二外部光路模塊用于對合束后的激光束進行聚焦和掃描控制; 所述第一外部光路模塊包括:沿光路依次布置的擴束鏡(1)、主光路光閘(2)、半波片(3)和第一45°反射鏡(4); 其中,所述主光路光閘(2)用于控制所述多層光學系統的光路通斷; 所述激光束的偏振方向的調整策略具體包括:線偏振激光通過擴束鏡(1)射入所述多層光學系統,經過主光路光閘(2)后到達半波片(3); 通過半波片(3)改變所述線偏振激光的偏振方向,獲得變向偏振激光,其中,所述變向偏振激光的偏振方向與紙面法線方向夾角為45°,所述變向偏振激光的偏振方向的方向向量所在平面與激光傳播方向垂直;所述變向偏振激光在水平和豎直方向的分量相等; 所述第二外部光路模塊包括:沿光路依次布置的2D掃描振鏡(14)和場鏡(15); 其中,所述第二外部光路模塊的入射光束依次經過2D掃描振鏡(14)和場鏡(15),所述入射光束通過場鏡(15)與待切割目標物(16)進行相互作用。
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