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龍圖騰網獲悉天津吉兆源科技有限公司申請的專利一種均勻性調節(jié)裝置及磁控濺射真空鍍膜機獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN117004917B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202311019730.1，技術領域涉及：C23C14/54；該發(fā)明授權一種均勻性調節(jié)裝置及磁控濺射真空鍍膜機是由李樹瑜;鄭芬設計研發(fā)完成，并于2023-08-14向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種均勻性調節(jié)裝置及磁控濺射真空鍍膜機在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種均勻性調節(jié)裝置及磁控濺射真空鍍膜機，包括主體（8）和均勻性調節(jié)裝置（6），主體（8）包括射頻電源（1）、射頻匹配器（2）、真空屏蔽罩（3）和旋轉陰極柱狀靶（4）；均勻性調節(jié)裝置（6）中包括諧振電路，該諧振電路由多檔位調節(jié)電感（12）和可調電容（14）串聯(lián)構成，多檔位調節(jié)電感（12）和穿墻件（7）的一端相連，穿墻件（7）的另一端與旋轉陰極柱狀靶（4）的懸空端（42）相連；旋轉陰極柱狀靶（4）和所述均勻性調節(jié)裝置（6）作為可調節(jié)的共同負載，用于實現(xiàn)加載在旋轉陰極柱狀靶（4）上的射頻電壓分布的均勻調節(jié)。與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明實現(xiàn)了在不改變真空鍍膜機原有結構設計的基礎上改善其濺射均勻性。

本發(fā)明授權一種均勻性調節(jié)裝置及磁控濺射真空鍍膜機在權利要求書中公布了：1.一種磁控濺射真空鍍膜機，其特征在于，包括：主體（8）和均勻性調節(jié)裝置（6），所述主體（8）包括射頻電源（1）、射頻匹配器（2）、真空屏蔽罩（3）、旋轉陰極柱狀靶（4），所述旋轉陰極柱狀靶（4）的懸空端（42）連接均勻性調節(jié)裝置（6），所述旋轉陰極柱狀靶（4）和所述均勻性調節(jié)裝置（6）作為可調節(jié)的共同負載，用于實現(xiàn)加載在旋轉陰極柱狀靶（4）上的射頻電壓分布的均勻調節(jié)； 其中，所述射頻電源（1）和所述射頻匹配器（2）相連，所述射頻匹配器（2）與所述旋轉陰極柱狀靶（4）的陽極（41）相連，所述射頻匹配器（2）接地，所述旋轉陰極柱狀靶（4）設置在真空屏蔽罩（3）中，所述旋轉陰極柱狀靶（4）的懸空端（42）輸出射頻電壓；所述均勻性調節(jié)裝置（6）中的多檔位調節(jié)電感（12）和穿墻件（7）的一端相連，所述穿墻件（7）的另一端與旋轉陰極柱狀靶（4）的懸空端（42）相連，所述穿墻件（7）固定在真空屏蔽罩（3）上；所述均勻性調節(jié)裝置包括金屬外殼（11）和前面板（17）和諧振電路（21）；所述諧振電路設置于所述金屬外殼（11）中，該諧振電路由多檔位調節(jié)電感（12）和可調電容（14）串聯(lián)構成，所述前面板（17）上設置與所述多檔位調節(jié)電感（12）相連的電容調節(jié)旋鈕（15）和與所述多檔位調節(jié)電感（12）相連的檔位調節(jié)旋鈕（18），所述多檔位調節(jié)電感（12）上加載射頻電壓，所述可調電容（14）與所述金屬外殼（11）相連，所述金屬外殼（11）接地。

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