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龍圖騰網(wǎng)獲悉湖北興福電子材料股份有限公司申請的專利一種單晶硅精拋液及制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN116948532B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202310743059.9，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C09G1/02；該發(fā)明授權(quán)一種單晶硅精拋液及制備方法是由賀兆波;羅月;葉瑞;張庭;鄒哲敏;姜飛;馮凱;崔會(huì)東;王書萍;嚴(yán)凡設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2023-06-21向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種單晶硅精拋液及制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種單晶硅精拋液及制備方法，該硅片精拋液由咪唑改性的高純硅溶膠、滲透劑和成膜劑、表面活性劑、pH調(diào)節(jié)劑和超純水組成，各組分所占的質(zhì)量百分比為：0.5%～20%的咪唑改性的高純納米硅溶膠、0.01～1%的螯合劑、0.01%～0.5%的滲透劑，0.001%～0.5%的成膜劑、0.01%～5%的pH調(diào)節(jié)劑、余量的超純水。其中咪唑改性的高純硅溶膠不僅能提高硅溶膠的分散性，而且能減弱硅溶膠與硅片之間的靜電斥力，顯著地提高硅片的拋光速率；在滲透劑和成膜劑的共同作用下，本發(fā)明的精拋液不僅拋光速率高達(dá)550nmmin，且拋光后硅片表面沾污顆粒極少，表面沒有劃痕和凹陷，表面狀態(tài)良好。同時(shí)本發(fā)明精拋液的金屬雜質(zhì)離子控制在10ppb以下，符合高端集成電路中單晶硅的精拋要求。

本發(fā)明授權(quán)一種單晶硅精拋液及制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種單晶硅精拋液，其特征在于，含有咪唑改性的硅溶膠、螯合劑、表面活性劑、pH調(diào)節(jié)劑和去離子水，各組分所占的質(zhì)量百分比為：0.5%～20%的咪唑改性的納米硅溶膠、0.01～1%的螯合劑、0.011%～1%的表面活性劑、0.01%～5%的pH調(diào)節(jié)劑、余量為去離子水；其中，所述的表面活性劑包括滲透劑和成膜劑，滲透劑含量為0.01%～0.5%，成膜劑含量為0.001%～0.5%，所述的咪唑改性的硅溶膠是通過咪唑基硅烷偶聯(lián)劑水解，然后再接枝到納米二氧化硅表面所得，咪唑基硅烷偶聯(lián)劑為N-咪唑丙基三甲氧基硅烷，N-[3-三乙氧硅烷基丙基]-4,5-雙氫咪唑中的一種或幾種，所述的滲透劑選自仲辛醇聚氧乙烯醚、月桂醇聚氧乙烯醚、異辛醇聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚、異辛醇聚氧乙烯醚單磷酸酯、月桂醇磷酸酯、異丙醇酰胺DF-21中的一種或幾種；所述的成膜劑選自羥乙基纖維素、羥丙基甲基纖維素、瓜爾膠、聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段共聚物、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙二醇-200、聚乙二醇-400、聚乙二醇-800、聚乙烯醇124、聚乙烯醇17-88中的一種或幾種。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人湖北興福電子材料股份有限公司，其通訊地址為：443007 湖北省宜昌市猇亭區(qū)猇亭大道66-3號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。