北京化工大學林彥軍獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉北京化工大學申請的專利一種含羥基空位的層狀吸附劑及其制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116747830B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310537311.0，技術領域涉及：B01J20/02；該發明授權一種含羥基空位的層狀吸附劑及其制備方法是由林彥軍;李洺瑜;李凱濤設計研發完成，并于2023-05-14向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種含羥基空位的層狀吸附劑及其制備方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種含羥基空位的層狀吸附劑及其制備方法。該方法是將三元水滑石前體分散到水中，加酸液刻蝕，刻蝕完成后離心洗滌至中性，干燥即得含羥基空位的層狀吸附劑。本發明通過引入四價金屬離子在水滑石層板產生羥基空位，然后使用酸液刻蝕進一步增加羥基空位與吸附活性位點數量。通過理論計算表明增加水滑石層板的羥基空位可以大幅提高和π電子之間的吸附能，因此對VOCs及廢水中的芳烴分子具有較高的吸附能力，吸附容量可達70mgg。本發明制備的吸附劑成本低，方法簡單，具有良好的應用前景。
本發明授權一種含羥基空位的層狀吸附劑及其制備方法在權利要求書中公布了：1.一種含羥基空位的層狀吸附劑的使用方法，其特征在于，所述使用方法的具體操作為：將含羥基空位的層狀吸附劑加入含芳烴的廢液中振蕩吸附，或含芳烴的廢氣經含羥基空位的層狀吸附劑過濾吸附除去芳烴； 所述的含羥基空位的層狀吸附劑的制備方法為：將三元水滑石前體分散到水中，加酸液刻蝕，刻蝕完成后離心洗滌至中性，干燥即得含羥基空位的層狀吸附劑； 所述三元水滑石前體的層板金屬離子由二價金屬離子、三價金屬離子和四價金屬離子組成。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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