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龍圖騰網獲悉青島天仁微納科技有限責任公司申請的專利用于晶圓旋涂的真空吸筆、對位工裝及方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116493207B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211717828.X，技術領域涉及：B05C13/02；該發明授權用于晶圓旋涂的真空吸筆、對位工裝及方法是由冀然;張顯龍設計研發完成，并于2022-12-29向國家知識產權局提交的專利申請。

本用于晶圓旋涂的真空吸筆、對位工裝及方法在說明書摘要公布了：本申請涉及晶圓表面涂抹技術領域，公開一種用于晶圓旋涂的真空吸筆，包括吸筆本體、真空吸孔、排氣口和真空泵，吸筆本體包括支撐部和手持部，手持部與支撐部連接，支撐部設置有若干頂針對位槽，頂針對位槽用于定位吸筆本體，支撐部上表面設置有凸出的弧形楞，弧形楞用于對齊晶圓邊緣；真空吸孔設置在支撐部的上表面，用于吸取晶圓；排氣口設置在支撐部的側部；真空泵通過手持部與支撐部連通，真空泵包括抽氣嘴和排氣嘴，抽氣嘴與真空吸孔連通，排氣嘴與排氣口連通。本公開能夠用于轉移晶圓，也可作為對位工裝，在晶圓轉移過程中，能夠節省設備空間，便捷且成本低，操作簡單。本申請還公開一種用于晶圓旋涂的對位工裝及方法。

本發明授權用于晶圓旋涂的真空吸筆、對位工裝及方法在權利要求書中公布了：1.一種用于晶圓旋涂的真空吸筆，其特征在于，包括： 吸筆本體10，包括支撐部11和手持部12，所述手持部12與所述支撐部11連接，所述支撐部11設置有若干頂針對位槽15，所述頂針對位槽15用于定位所述吸筆本體10，所述支撐部11上表面設置有凸出的弧形楞16，所述弧形楞16用于對齊晶圓30邊緣； 第一撐桿111，前端設置有第一頂針對位槽； 第二撐桿112，前端設置有第二頂針對位槽； 連接桿113，前側設置有第三頂針對位槽，后側與所述手持部12連接，所述連接桿113的兩端分別連接所述第一撐桿111的后端與所述第二撐桿112的后端； 所述第一頂針對位槽、所述第二頂針對位槽和所述第三頂針對位槽構成等邊三角形，所述等邊三角形的中心與臺盤20的中心重合，所述臺盤20用于放置所述晶圓30； 真空吸孔13，設置在所述支撐部11的上表面，用于吸取晶圓30； 排氣口14，設置在所述支撐部11的側部； 真空泵，通過所述手持部12與所述支撐部11連通，所述真空泵包括抽氣嘴和排氣嘴，所述抽氣嘴與所述真空吸孔13連通，所述排氣嘴與所述排氣口14連通。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人青島天仁微納科技有限責任公司，其通訊地址為：266000 山東省青島市城陽區城陽街道祥陽路106號青島未來科技產業園6號廠房；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。