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龍圖騰網(wǎng)獲悉常州華束科技有限公司申請(qǐng)的專(zhuān)利一種基于相變冷卻的外置旋轉(zhuǎn)靶組件、X射線(xiàn)源及方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115665956B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202211376844.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H05G2/00；該發(fā)明授權(quán)一種基于相變冷卻的外置旋轉(zhuǎn)靶組件、X射線(xiàn)源及方法是由彭宇飛;龍繼東;陳彈蛋設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-11-04向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本一種基于相變冷卻的外置旋轉(zhuǎn)靶組件、X射線(xiàn)源及方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本發(fā)明公開(kāi)了一種基于相變冷卻的外置旋轉(zhuǎn)靶組件、X射線(xiàn)源及方法，該旋轉(zhuǎn)靶組件包括靶腔、旋轉(zhuǎn)靶、軸承、驅(qū)動(dòng)線(xiàn)圈、霧化器和排氣管；靶腔一側(cè)設(shè)置有軸承和驅(qū)動(dòng)線(xiàn)圈、另一側(cè)設(shè)置有霧化器；靶腔底端連接有排氣管；旋轉(zhuǎn)靶通過(guò)軸承安裝在靶腔中，旋轉(zhuǎn)靶在驅(qū)動(dòng)線(xiàn)圈的驅(qū)動(dòng)下實(shí)現(xiàn)高速旋轉(zhuǎn)；當(dāng)外部電子束轟擊旋轉(zhuǎn)靶時(shí)，轟擊旋轉(zhuǎn)靶產(chǎn)生X射線(xiàn)，這時(shí)大部分能量以熱量的形式沉積在旋轉(zhuǎn)靶上；本發(fā)明采用相變冷卻方法實(shí)現(xiàn)，霧化器持續(xù)向旋轉(zhuǎn)靶噴射液霧，高溫位置旋轉(zhuǎn)到霧化器對(duì)應(yīng)的位置時(shí)，液體霧滴碰到高溫旋轉(zhuǎn)靶迅速蒸發(fā)為高溫氣體，高溫氣體經(jīng)過(guò)排氣管被抽走，實(shí)現(xiàn)對(duì)旋轉(zhuǎn)靶的冷卻。本發(fā)明不會(huì)影響電子束和X射線(xiàn)的品質(zhì)和劑量等性能。

本發(fā)明授權(quán)一種基于相變冷卻的外置旋轉(zhuǎn)靶組件、X射線(xiàn)源及方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種基于相變冷卻的外置旋轉(zhuǎn)靶組件，其特征在于，該旋轉(zhuǎn)靶組件包括靶腔（1）、旋轉(zhuǎn)靶（2）、軸承（3）、驅(qū)動(dòng)線(xiàn)圈（4）、霧化器（5）和排氣管（6）； 所述靶腔（1）一側(cè)設(shè)置有軸承（3）和驅(qū)動(dòng)線(xiàn)圈（4）、另一側(cè)設(shè)置有霧化器（5）；所述靶腔（1）底端連接有排氣管（6）；所述旋轉(zhuǎn)靶（2）通過(guò)軸承（3）安裝在靶腔（1）中，所述旋轉(zhuǎn)靶（2）在驅(qū)動(dòng)線(xiàn)圈（4）的驅(qū)動(dòng)下實(shí)現(xiàn)高速旋轉(zhuǎn)； 當(dāng)外部電子束轟擊旋轉(zhuǎn)靶（2）時(shí)，轟擊旋轉(zhuǎn)靶（2）產(chǎn)生X射線(xiàn)，這時(shí)部分能量以熱量的形式沉積在旋轉(zhuǎn)靶（2）上；霧化器（5）持續(xù)向旋轉(zhuǎn)靶（2）噴射液霧，高溫位置旋轉(zhuǎn)到霧化器（5）對(duì)應(yīng)的位置時(shí)，液體霧滴碰到高溫旋轉(zhuǎn)靶（2）蒸發(fā)為高溫氣體，高溫氣體經(jīng)過(guò)排氣管（6）被抽走，實(shí)現(xiàn)對(duì)旋轉(zhuǎn)靶的冷卻；蒸氣不會(huì)對(duì)電子束或者X射線(xiàn)有干擾；電子束聚焦不受液體的散射，以更小的束斑尺寸打旋轉(zhuǎn)靶（2）獲得更好的X射線(xiàn)空間分辨能力；電子通量和X射線(xiàn)劑量不會(huì)由于冷卻液體的吸收而損失。

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