東京毅力科創株式會社相浦一博獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉東京毅力科創株式會社申請的專利基片處理裝置和基片處理方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN118160074B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202280071573.6，技術領域涉及：H01L21/304；該發明授權基片處理裝置和基片處理方法是由相浦一博;天野嘉文設計研發完成，并于2022-09-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本基片處理裝置和基片處理方法在說明書摘要公布了：本發明的基片處理裝置1包括保持基片并使其旋轉的基片旋轉部20、外側杯狀體51、內側杯狀體52、環狀排液部64和排氣通路62。外側杯狀體51呈環狀地覆蓋被保持在基片旋轉部20的基片的周圍。內側杯狀體52配置在外側杯狀體51的內側，并且配置在被保持在基片旋轉部20的基片的下方。環狀排液部64形成在外側杯狀體51與內側杯狀體52之間，將被供給至基片的處理液向外部排出。排氣通路62形成在內側杯狀體52的內側。內側杯狀體52具有將由內側杯狀體52和外側杯狀體51形成的承液空間60與排氣通路62之間連通的排氣孔61。排氣孔61從內側杯狀體52的外表面52c向斜下方形成至內表面52d。
本發明授權基片處理裝置和基片處理方法在權利要求書中公布了：1.一種基片處理裝置，其特征在于，包括： 保持基片并使其旋轉的基片旋轉部； 外側杯狀體，其呈環狀地覆蓋被保持在所述基片旋轉部的所述基片的周圍； 內側杯狀體，其配置在所述外側杯狀體的內側，并且配置在被保持在所述基片旋轉部的所述基片的下方； 配置在所述基片旋轉部與所述內側杯狀體之間的加熱機構； 環狀排液部，其形成在所述外側杯狀體與所述內側杯狀體之間，將被供給至所述基片的處理液向外部排出；和 形成于所述內側杯狀體的內側的排氣通路， 所述內側杯狀體具有將由所述內側杯狀體和所述外側杯狀體形成的承液空間與所述排氣通路之間連通的排氣孔， 所述排氣孔從所述內側杯狀體的外表面向斜下方形成至內表面。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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