杰宜斯科技有限公司孔云獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉杰宜斯科技有限公司申請的專利基板處理裝置及基板處理方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114121758B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110975794.3，技術領域涉及：H01L21/683；該發明授權基板處理裝置及基板處理方法是由孔云;宋智勛;文雄助;樸芝鎬;崔源錫設計研發完成，并于2021-08-24向國家知識產權局提交的專利申請。
本基板處理裝置及基板處理方法在說明書摘要公布了：本發明涉及一種基板處理裝置及基板處理方法，該基板處理裝置包括：旋轉卡盤部，以能夠旋轉的方式設置于驅動部；真空卡盤部，配置于旋轉卡盤部，供晶片放置；卡緊模塊，設置于旋轉卡盤部，使得晶片固定于真空卡盤部；以及移動模塊，使真空卡盤部或卡緊模塊移動，以在晶片上擴大相鄰模具之間的間隔。因此，能夠顯著提高晶片的清洗性能并且能夠顯著降低晶片的不合格率。
本發明授權基板處理裝置及基板處理方法在權利要求書中公布了：1.一種基板處理裝置，其特征在于，包括： 旋轉卡盤部，以能夠旋轉的方式設置于驅動部； 真空卡盤部，配置于所述旋轉卡盤部并且供晶片放置； 卡緊模塊，設置于所述旋轉卡盤部，以使得所述晶片固定于所述真空卡盤部；以及 移動模塊，使所述真空卡盤部或所述卡緊模塊移動，以在所述晶片上擴大相鄰模具之間的間隔， 所述真空卡盤部包括： 第一真空卡盤，以與所述旋轉卡盤部一起旋轉的方式設置于所述旋轉卡盤部，并且所述第一真空卡盤形成真空壓以吸附所述晶片；以及 第二真空卡盤，搭載于所述第一真空卡盤并且供所述晶片搭載，所述第二真空卡盤設置為通過所述移動模塊而升降，以擴大所述模具之間的間隔。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人杰宜斯科技有限公司，其通訊地址為：韓國京畿道；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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