富士膠片株式會社山田悟獲國家專利權
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龍圖騰網(wǎng)獲悉富士膠片株式會社申請的專利組合物、轉印膜、層疊體的制造方法、電路配線的制造方法及電子器件的制造方法獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產(chǎn)權局授予，授權公告號為：CN116157433B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權局官網(wǎng)在2025-08-15發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202180060522.9，技術領域涉及：G03F7/004；該發(fā)明授權組合物、轉印膜、層疊體的制造方法、電路配線的制造方法及電子器件的制造方法是由山田悟;兩角一真;豐岡健太郎設計研發(fā)完成，并于2021-07-21向國家知識產(chǎn)權局提交的專利申請。
本組合物、轉印膜、層疊體的制造方法、電路配線的制造方法及電子器件的制造方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明的課題在于提供一種涂布性優(yōu)異的組合物。并且，本發(fā)明的另一課題在于提供一種與上述組合物有關的轉印膜、層疊體的制造方法、電路配線的制造方法及電子器件的制造方法。本發(fā)明的組合物包含堿可溶性樹脂、聚合性化合物及化合物A，上述化合物A為具有由下述通式1表示的基團的化合物。通式1：*?CF2?H，式中，*表示鍵合位置。
本發(fā)明授權組合物、轉印膜、層疊體的制造方法、電路配線的制造方法及電子器件的制造方法在權利要求書中公布了：1.一種組合物，其包含堿可溶性樹脂、聚合性化合物及化合物A， 所述化合物A為重均分子量為5000以上的高分子化合物， 所述高分子化合物包含源自由下述通式（4A）表示的單體的結構單元， 式中，R1表示氫原子或甲基， X表示氧原子、硫原子或-N（R2）-， m及n分別獨立地表示1～6的整數(shù)， R2表示氫原子或碳原子數(shù)1～4的烷基， 所述高分子化合物還包含源自由下述通式（5）表示的單體的結構單元， 式中，R3表示氫原子或甲基， Y表示氧原子、硫原子或-N（R5）-， AL表示任選地具有取代基的亞烷基， nAL表示2以上的整數(shù)， R4表示氫原子或碳原子數(shù)1～6的烷基， R5表示氫原子或碳原子數(shù)1～4的烷基。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發(fā)布本報告當日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據(jù)或者憑證。
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