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龍圖騰網獲悉合肥晶合集成電路股份有限公司申請的專利一種光學鄰近校正模型的建模方法、系統及計算機設備獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120315261B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510803572.1，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權一種光學鄰近校正模型的建模方法、系統及計算機設備是由王康;羅招龍設計研發完成，并于2025-06-17向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種光學鄰近校正模型的建模方法、系統及計算機設備在說明書摘要公布了：本發明公開了一種光學鄰近校正模型的建模方法、系統及計算機設備，屬于集成電路制造領域，所述光學鄰近校正模型的建模方法包括以下步驟：設置包括非對稱圖形的標準偏差的成本函數；在每個參數下，將目標圖形數據輸入光學鄰近校正模型，獲取目標圖形的模擬圖形數據，并依據模擬圖形數據和晶圓圖形數據，獲取每個參數下的成本函數；輸出參數范圍內成本函數最小時的光學鄰近校正模型；將最小成本函數小于預設成本時，將最小成本函數對應的光學鄰近校正模型作為目標光學鄰近校正模型通過本發明公開的光學鄰近校正模型的建模方法，可提對非對稱光罩圖形的光學鄰近校正的準確性。

本發明授權一種光學鄰近校正模型的建模方法、系統及計算機設備在權利要求書中公布了：1.一種光學鄰近校正模型的建模方法，其特征在于，包括以下步驟： 獲取多個目標圖形數據，以及每個所述目標圖形數據對應的晶圓圖形數據； 將目標圖形區分為對稱圖形和非對稱圖形； 設置光學鄰近校正模型初始的內核和參數范圍，并設置表示擬合程度的成本函數，所述成本函數中包括所有目標圖形的標準偏差以及所述非對稱圖形的標準偏差； 在所述參數范圍內的每個參數下，將所述目標圖形數據輸入所述光學鄰近校正模型，獲取所述目標圖形的模擬圖形數據，并依據所述模擬圖形數據和所述晶圓圖形數據，獲取每個參數下的成本函數； 輸出所述參數范圍內成本函數最小時的所述光學鄰近校正模型；以及 判斷最小成本函數是否小于預設成本；若最小成本函數小于所述預設成本，將輸出的所述光學鄰近校正模型作為目標光學鄰近校正模型；若最小成本函數大于或等于所述預設成本，則調整所述光學鄰近校正模型的內核和參數范圍，直至最小成本函數小于預設成本。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人合肥晶合集成電路股份有限公司，其通訊地址為：230012 安徽省合肥市新站區合肥綜合保稅區內西淝河路88號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。