武漢科技大學(xué)余銳獲國家專利權(quán)

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龍圖騰網(wǎng)獲悉武漢科技大學(xué)申請的專利一種氯化物熔鹽介質(zhì)的鎂基可控釋放緩蝕劑及其制備方法和應(yīng)用獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN120291090B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-19發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202510774221.2，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23F11/00；該發(fā)明授權(quán)一種氯化物熔鹽介質(zhì)的鎂基可控釋放緩蝕劑及其制備方法和應(yīng)用是由余銳;吳開明;張弦;杜開發(fā);黃天佑;岳雙慶設(shè)計研發(fā)完成，并于2025-06-11向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種氯化物熔鹽介質(zhì)的鎂基可控釋放緩蝕劑及其制備方法和應(yīng)用在說明書摘要公布了：本發(fā)明屬于材料腐蝕防護技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種氯化物熔鹽介質(zhì)的鎂基可控釋放緩蝕劑及其制備方法和應(yīng)用。該緩蝕劑包括：內(nèi)層，其為鎂鎳合金內(nèi)核；中間層，其為金屬鎳緩釋層；以及外層，其為氧化鎂阻隔層。該制備方法包括以下步驟：S1、制備鎂鎳合金；S2、將鎂鎳合金粉碎為顆粒；S3、采用電鍍的方法在鎂鎳合金內(nèi)核表面電鍍一層金屬鎳層，得到金屬鎳緩釋層；S4、將具有金屬鎳緩釋層的鎂鎳合金內(nèi)核在空氣氣氛中加熱氧化，得到氧化鎂阻隔層。該緩蝕劑不僅能夠有效去除氯化鹽中水氧雜質(zhì)，降低其腐蝕性，還能避免液態(tài)鎂緩蝕劑與容器材料直接接觸而造成局部破壞性腐蝕的問題，大幅度提升容器材料在氯化鹽中的耐蝕性。

本發(fā)明授權(quán)一種氯化物熔鹽介質(zhì)的鎂基可控釋放緩蝕劑及其制備方法和應(yīng)用在權(quán)利要求書中公布了：1.一種氯化物熔鹽介質(zhì)的鎂基可控釋放緩蝕劑，其特征在于，包括：內(nèi)層，其為鎂鎳合金內(nèi)核；中間層，其為金屬鎳緩釋層；以及外層，其為氧化鎂阻隔層。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人武漢科技大學(xué)，其通訊地址為：430081 湖北省武漢市青山區(qū)和平大道947號；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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