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龍圖騰網獲悉阿法龍(山東)科技有限公司申請的專利遠場成像系統、超表面光柵及成像終端獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120161615B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510645812.X，技術領域涉及：G02B27/00；該發明授權遠場成像系統、超表面光柵及成像終端是由徐培培設計研發完成，并于2025-05-20向國家知識產權局提交的專利申請。

本遠場成像系統、超表面光柵及成像終端在說明書摘要公布了：本發明公開了一種遠場成像系統、超表面光柵及成像終端，涉及圖像生成技術領域；該系統多模塊協同實現動態環境補償與成像質量優化：實時讀取環境溫度，依據預存映射關系修正超表面光柵折射率，構建并離散目標波前函數獲得初始相位分布矩陣；結合用戶視線劃分聚焦區，以電壓梯度補償調控相位分布矩陣；基于此劃分緩沖與背景區域，配置多區域采樣率生成掩碼，提升關鍵區域采集效率；實時監測遠場信息變化，選擇插值或全變分策略更新圖像；借助圖像清晰度反饋，疊加二次相位修正項優化相位分布矩陣；本發明解決傳統遠場成像在環境適應、動態聚焦、數據采集及成像質量方面的難題，適用于增強現實眼鏡等。

本發明授權遠場成像系統、超表面光柵及成像終端在權利要求書中公布了：1.一種遠場成像系統，其特征在于，包括： 接收用戶指令進行初始化，讀取環境溫度數據，調用溫度與折射率映射關系修正超表面光柵折射率并構建目標波前函數，將所述目標波前函數離散化為與超表面光柵對應的初始相位分布矩陣； 結合用戶視線方向數據劃分所述超表面光柵的聚焦目標區域，設定聚焦尺寸，對所述聚焦目標區域進行局部高密度相位調控，以獲取調整后的相位分布矩陣； 基于所述相位分布矩陣對超表面光柵進行調整后，以聚焦目標區域為中心，劃分采樣區域的緩沖區域與背景區域；配置并優化采樣頻率，生成每個采樣區域的采樣掩碼，以獲取每個采樣區域采樣數并劃分子區域，對各所述子區域進行同步采樣獲取目標場景遠場信息； 設置監測時間窗口并計算所述目標場景遠場信息變化率，判斷遠場信息是否穩定，若穩定則進行初始重構圖像的重構，并基于遠場信息更新變化量，確定圖像更新策略，以更新目標場景圖像； 基于所述目標場景圖像的圖像清晰度指數，判定成像質量是否合格，若不合格，基于所述圖像清晰度指數，獲取二次相位修正項，并將所述二次相位修正項值疊加到相位分布矩陣中對應位置的元素上，動態調整相位分布矩陣；直至成像質量合格。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人阿法龍(山東)科技有限公司，其通訊地址為：252000 山東省聊城市高新區九州街道廬山路29號基金大廈輔樓5層501室；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。