華海清科股份有限公司王科獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉華海清科股份有限公司申請的專利一種晶圓后處理裝置、背面擦洗設備、方法和處理設備獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號為:CN120170636B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-19發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為:202510647400.X,技術(shù)領域涉及:B24B37/34;該發(fā)明授權(quán)一種晶圓后處理裝置、背面擦洗設備、方法和處理設備是由王科;曹自立;李長坤;劉洪旺設計研發(fā)完成,并于2025-05-20向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本一種晶圓后處理裝置、背面擦洗設備、方法和處理設備在說明書摘要公布了:本發(fā)明提供一種晶圓后處理裝置、背面擦洗設備、方法和處理設備,晶圓后處理裝置包括:擦洗組件、支撐組件和夾持組件;擦洗組件包括擦洗臂、擦洗頭和擦洗墊,擦洗墊安裝在擦洗頭上;支撐組件包括支撐臂和支撐頭,支撐頭的表面上分布有多個支撐流體噴孔;處理晶圓時,夾持組件夾持并帶動晶圓旋轉(zhuǎn),晶圓位于擦洗墊和支撐頭之間,支撐頭的表面與晶圓正面具有間隙,擦洗墊以擦洗壓力貼合晶圓背面并旋轉(zhuǎn),擦洗頭和支撐頭往復擺動,并在擺動過程中始終保持對位,擦洗流體通道向晶圓背面供應擦洗流體,支撐流體噴孔持續(xù)向晶圓正面噴出支撐流體,以使得支撐頭表面不與晶圓正面接觸;從而不損傷晶圓正面的同時,去除晶圓背面的污染物。
本發(fā)明授權(quán)一種晶圓后處理裝置、背面擦洗設備、方法和處理設備在權(quán)利要求書中公布了:1.一種晶圓后處理裝置,其特征在于,包括:擦洗組件、支撐組件和夾持組件; 擦洗組件包括擦洗臂、擦洗頭、擦洗墊、旋轉(zhuǎn)升降元件和擦洗流體通道,擦洗墊安裝在擦洗頭上; 支撐組件包括支撐臂和支撐頭,支撐頭的表面具有多個支撐流體噴孔; 處理晶圓時, 夾持組件夾持并帶動晶圓旋轉(zhuǎn),晶圓位于擦洗墊和支撐頭之間,支撐頭的表面與晶圓正面具有間隙, 擦洗墊以擦洗壓力貼合晶圓背面,并在擦洗頭帶動下旋轉(zhuǎn),擦洗流體通道向晶圓背面供應擦洗流體,擦洗頭和支撐頭在晶圓中心和晶圓邊緣之間往復擺動,并在擺動過程中始終保持對位,支撐流體噴孔持續(xù)向晶圓正面噴出支撐流體,以支撐晶圓并使得支撐頭的表面不與晶圓正面接觸, 旋轉(zhuǎn)升降元件通過升降擦洗頭調(diào)節(jié)擦洗壓力,以使得擦洗頭位于晶圓中心和晶圓邊緣時,晶圓發(fā)生不同形變,以有利于污染物排出; 從而不損傷晶圓正面的同時,去除晶圓背面的深層殘留污染物、化學鍵合殘留污染物或微觀缺陷。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)@麢?quán)人華海清科股份有限公司,其通訊地址為:300350 天津市津南區(qū)咸水沽鎮(zhèn)聚興道11號;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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