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龍圖騰網獲悉四川大學申請的專利一種多孔環氧聚氨酯拋光墊基材、制備方法及用途獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120170633B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510629839.X，技術領域涉及：B24B37/24；該發明授權一種多孔環氧聚氨酯拋光墊基材、制備方法及用途是由江亮;雷景新;符笑偉;雷元設計研發完成，并于2025-05-16向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種多孔環氧聚氨酯拋光墊基材、制備方法及用途在說明書摘要公布了：本發明涉及半導體制造技術領域，尤其涉及一種新型的化學機械拋光墊，該化學機械拋光墊用于對選自磁性基片、光學基片和半導體基片中的至少一種的基片進行拋光。本發明旨在解決現有技術中研磨和拋光領域的基材其氣泡體積不均一且分布不均勻而引起的基材微觀組織不穩定，從而引起研磨和拋光領域的基材性能下降、磨損衰減頻率提升的問題。本發明涉及一種多孔環氧聚氨酯拋光墊基材、制備方法及用途，其通過環氧改性劑對聚氨酯預聚體進行封端，以環氧基團取代傳統NCO基團參與固化反應，從根本上避免了因NCO基團與空氣中水分反應生成CO?氣體導致拋光墊內部形成大氣孔的問題。

本發明授權一種多孔環氧聚氨酯拋光墊基材、制備方法及用途在權利要求書中公布了：1.一種多孔環氧聚氨酯拋光墊基材，其特征在于，其組分為： 按照重量計1~30份二元醇、2~25份二異氰酸酯類化合物、1~5份環氧改性劑、0.4~3.0份擴鏈劑、0.0001~0.05份二月桂酸二丁基錫； 其中，所述二異氰酸酯類化合物選自以下組分中的一種或多種： 1,6-己二異氰酸酯、異佛爾酮二異氰酸酯、對環己基異氰酸酯、甲苯二異氰酸酯、二苯基甲烷二異氰酸酯、茶二異氰酸酯、聯甲苯胺二異氰酸酯、3,3’-聯甲苯二異氰酸酯、二苯基-4,4-二異氰酸酯、四甲基苯二甲基二異氰酸酯、對苯二異氰酸酯、苯二甲基二異氰酸酯； 所述二元醇選自以下組分中的一種： 聚四亞甲基醚乙二醇、聚丙二醇、聚乙二醇，聚酯二元醇； 所述環氧改性劑選自以下組分中的一種或多種： 環氧丙醇、1,3-二環氧甘油醚甘油、丙二醇二環氧丙酯、1-[4-2-羥乙基苯氧基]-2,3-環氧丙烷； 所述擴鏈劑選自以下組分中的一種或多種： 四乙烯五胺、三亞乙基二胺、4,4'-亞甲基雙-2-氯代苯胺、4,4’-亞甲基雙-（3-氯-2,6-二乙基苯胺）、二乙基甲苯二胺、二甲硫基甲苯二胺、4,4-（仲丁基氨基）二苯基甲烷、1,3-丙二醇二-（4-氨基苯甲酸酯）、4,4-亞甲基-二-2,6-二乙基苯胺）、4,4-亞甲基-二-（2,6-二異丙基苯胺）、4,4-亞甲基-二-2-異丙基-6-甲基苯胺）、2-[2-2-氨基苯基）硫烷基乙基硫烷基]苯胺、4,4’-亞甲基-二-（2-氯代苯胺）、4,4-亞甲基二（N-仲丁基苯胺）， 所述多孔環氧聚氨酯拋光墊基材的制備方法如下：S1將按重量計2~25份二異氰酸酯類化合物與1~30份多元醇混合；S2隨后加入1~5份環氧改性劑；S3加入0.0001~0.05份二月桂酸二丁基錫和0.4~3.0份擴鏈劑；S4混合；S5加熱固化。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人四川大學，其通訊地址為：610041 四川省成都市武侯區一環路南一段24號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。