中國科學院近代物理研究所何源獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉中國科學院近代物理研究所申請的專利一種適用于變能直線加速器FLASH治療的束流配送系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN120094114B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202510591642.1，技術領域涉及：A61N5/10；該發明授權一種適用于變能直線加速器FLASH治療的束流配送系統是由何源;竇為平;王志軍;秦元帥;陳偉龍;陶玥;黎曉曉設計研發完成，并于2025-05-09向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種適用于變能直線加速器FLASH治療的束流配送系統在說明書摘要公布了：本發明公開了一種適用于變能直線加速器FLASH治療的束流配送系統，采用直線加速器變能和橫向掃描組合的方式，通過直線加速器快速變能實現縱向深度覆蓋，橫向有兩種實現方式，包括通過筆形束二維點掃描，三角波或者正弦波一維掃描實現，直接完成三維適形照射，無需定制化脊形過濾器，可以避免因靶區形狀復雜導致的制造難題，降低成本并提高通用性。
本發明授權一種適用于變能直線加速器FLASH治療的束流配送系統在權利要求書中公布了：1.一種適用于變能直線加速器FLASH治療的束流配送系統，其特征在于，包括沿束流傳輸方向依次布置的多個四極磁鐵、Y向掃描磁鐵、X向掃描磁鐵、分條電離室、劑量電離室和治療控制系統；其中， 所述四極磁鐵用于將變能直線加速器發射的質子束的宏束團的視野區直徑擴展到指定大小； 所述Y向掃描磁鐵用于在橫向的y方向對束流進行偏轉； 所述X向掃描磁鐵用于在橫向的x方向對束流進行偏轉； 所述分條電離室用于實時測量束流的位置； 所述劑量電離室用于實時測量束流的照射劑量； 所述治療控制系統包括： 標定模塊，用于對每一能量層的質子束的宏束團進行劑量標定； 需求設定模塊，用于根據FLASH照射要求，確定靶區內每一靶點上應照射的粒子數； 加速器控制模塊，用于控制所述變能直線加速器采用筆形束掃描模式在橫向上按照確定的粒子數進行逐點照射； 所述變能直線加速器通過預先設置多個腔體的相位和幅值來快速變化能量，變能采用固定點和范圍變能的方式，變能時間在ms級，變能步距小于1MeV，通過束流斬波器控制質子束的宏束團脈沖長度，脈沖長度變化步距小于2ns，縱向采用先遠端后近端的分層掃描方式。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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