株式會社日立高新技術土居悠輝獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉株式會社日立高新技術申請的專利試樣觀察裝置以及方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115508398B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202210671788.3,技術領域涉及:G01N23/2251;該發明授權試樣觀察裝置以及方法是由土居悠輝;近藤直明;原田實;中山英樹;嶺川陽平;高木裕治設計研發完成,并于2022-06-14向國家知識產權局提交的專利申請。
本試樣觀察裝置以及方法在說明書摘要公布了:本發明提供一種試樣觀察裝置以及方法,關于試樣觀察裝置,提供用戶能夠簡單地提高缺陷檢測相關的精度的技術。試樣觀察裝置在試樣觀察處理之前進行的學習處理中,按由缺陷位置信息表示的缺陷位置,取得第一拍攝條件下的學習用低畫質圖像,根據拍攝張數的設定值,決定與每個缺陷位置的學習用低畫質圖像對應起來的多個學習用高畫質圖像的拍攝張數和多個拍攝點,取得第二拍攝條件下的多個學習用高畫質圖像,使用學習用低畫質圖像和多個學習用高畫質圖像,學習高畫質圖像推定模型,使用高畫質圖像推定模型,調整試樣觀察處理的缺陷檢測相關的參數。
本發明授權試樣觀察裝置以及方法在權利要求書中公布了:1.一種試樣觀察裝置,具有: 拍攝裝置;以及 處理器,其執行學習高畫質圖像推定模型的學習處理A和進行缺陷檢測的試樣觀察處理B,其特征在于, 所述學習處理A中,執行以下處理: 處理A1,取得與學習用試樣相關的1個以上的學習用缺陷位置; 處理A2,按所述學習用缺陷位置,取得第一拍攝條件下的學習用低畫質圖像; 處理A3,取得學習用高畫質圖像的拍攝張數相關的第一設定值; 處理A4,按所述學習用缺陷位置執行以下處理: 處理A4a,根據所述第一設定值,決定所述學習用高畫質圖像的拍攝張數, 處理A4b,根據在處理A4a中決定出的拍攝張數,決定拍攝所述學習用高畫質圖像的位置即1個以上的拍攝點, 處理A4c,針對在處理A4b中決定出的1個以上的所述拍攝點的每一個,取得第二拍攝條件下的所述學習用高畫質圖像; 處理A5,使用所述學習用低畫質圖像以及所述學習用高畫質圖像來學習所述高畫質圖像推定模型;以及 處理A6,使用所述高畫質圖像推定模型來調整缺陷檢測參數, 所述試樣觀察處理B中,根據調整后的所述缺陷檢測參數,執行以下處理: 處理B1,在所述第一拍攝條件下,取得觀察對象試樣的缺陷位置的第一檢查圖像;以及 處理B2,根據所述第一檢查圖像,檢測所述觀察對象試樣的缺陷候補。
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