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龍圖騰網獲悉中國科學院近代物理研究所申請的專利利用射頻腔對強流高功率粒子束進行滑相環形掃描的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115003002B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210421158.0，技術領域涉及：H05H7/00；該發明授權利用射頻腔對強流高功率粒子束進行滑相環形掃描的方法是由賈歡;黃玉璐;秦元帥;何源;黃貴榮設計研發完成，并于2022-04-21向國家知識產權局提交的專利申請。

本利用射頻腔對強流高功率粒子束進行滑相環形掃描的方法在說明書摘要公布了：本發明涉及一種利用射頻腔對強流高功率粒子束進行滑相環形掃描的方法，包括：通過聚焦元件組將強流高功率粒子束匯聚為靶面所需求的束斑尺寸；通過聚焦元件組控制射頻腔與靶面間的相移；對束流進行偏轉，使得束流按照需求方向打靶；根據束流微脈沖頻率、靶面尺寸和靶面處束斑尺寸選取適當的射頻腔頻率，保證射頻腔與束團有頻率差△f，使得相鄰束團中心感受到橫向場相位不一致，從而被掃描至靶面的不同位置，實現滑相掃描；利用正交三穩射頻腔橫向電磁場對束流進行橫向踢軌，使得束斑中心在靶面上形成環形分布。本發明利用三穩射頻腔對強流高功率粒子束的滑相環形掃描方法，能夠滿足強流高功率粒子束環形掃描的需要。

本發明授權利用射頻腔對強流高功率粒子束進行滑相環形掃描的方法在權利要求書中公布了：1.一種利用射頻腔對強流高功率粒子束進行滑相環形掃描的方法，其特征在于包括： 通過聚焦元件組將強流高功率粒子束匯聚為靶面所需求的束斑尺寸； 通過聚焦元件組控制射頻腔與靶面間的相移，聚焦元件組包括設置在射頻腔和靶面之間的沿束流傳輸線間隔布置的若干臺四極磁鐵或螺線管，通過水平與垂直方向交替聚焦的方式對強流高功率粒子束橫截面方向的分布尺寸進行約束，并匯聚為靶面所需求的束斑尺寸；聚焦元件組還用于實現射頻腔與靶面間的相移控制，經優化四極磁鐵梯度或螺線管磁場，實現射頻腔與靶面間相移為k+12π，從而使得射頻腔的橫向踢軌效應最大； 對束流進行偏轉，使得束流按照需求方向打靶； 根據束流微脈沖頻率、靶面尺寸和靶面處束斑尺寸選取適當的射頻腔頻率，保證射頻腔與束團有頻率差△f，使得相鄰束團中心感受到橫向場相位不一致，從而被掃描至靶面的不同位置，實現滑相掃描，射頻腔頻率fc根據束流微脈沖頻率f0、靶面上環形掃描半徑R、靶面處束斑均方根RMS尺寸σ進行確定，使得靶面相鄰掃描點間距小于2σ，進而保證掃描后環上束斑分布均勻，掃描后束斑在靶面的分布數量N≥2πR2σ，fc=n-mNf0，其中，n為正整數，m為小于N的整數，且m與N互質； 利用正交三穩射頻腔橫向電磁場對束流進行橫向踢軌，使得束斑中心在靶面上形成環形分布，兩只射頻腔對束流分別在水平與垂直方向踢軌，相位差90°，從而保證束斑在靶面上呈環形分布。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人中國科學院近代物理研究所，其通訊地址為：730000 甘肅省蘭州市南昌路509號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。