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龍圖騰網(wǎng)獲悉中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司申請(qǐng)的專利光學(xué)鄰近修正方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN116360203B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-19發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202111630338.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F1/36；該發(fā)明授權(quán)光學(xué)鄰近修正方法是由嚴(yán)中穩(wěn);劉娜設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-12-28向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本光學(xué)鄰近修正方法在說明書摘要公布了：一種光學(xué)鄰近修正方法，包括：提供目標(biāo)版圖，所述目標(biāo)版圖包括若干目標(biāo)圖形；獲取初始版圖，所述初始版圖包括與若干目標(biāo)圖形對(duì)應(yīng)的若干初始圖形；對(duì)所述初始版圖進(jìn)行曝光處理，獲取初始曝光版圖；對(duì)比所述初始曝光版圖與所述目標(biāo)版圖，獲取所述初始曝光版圖中的若干缺陷，并獲取所述若干缺陷對(duì)應(yīng)的若干邊緣放置誤差；根據(jù)所述若干邊緣放置誤差，在若干初始圖形中獲取若干待偏移圖形；基于各待偏移圖形對(duì)應(yīng)的若干邊緣放置誤差，偏移各待偏移圖形，形成初始修正版圖；對(duì)所述初始修正版圖進(jìn)行若干次局部光學(xué)鄰近修正，獲取修正版圖，以減少局部光學(xué)鄰近修正中的EPE缺陷，提高修正版圖的圖形精度。

本發(fā)明授權(quán)光學(xué)鄰近修正方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種光學(xué)鄰近修正方法，其特征在于，包括： 提供目標(biāo)版圖，所述目標(biāo)版圖包括若干目標(biāo)圖形； 獲取初始版圖，所述初始版圖包括與若干目標(biāo)圖形對(duì)應(yīng)的若干初始圖形； 對(duì)所述初始版圖進(jìn)行曝光處理，獲取初始曝光版圖； 對(duì)比所述初始曝光版圖與所述目標(biāo)版圖，獲取所述初始曝光版圖中的若干缺陷，并獲取所述若干缺陷對(duì)應(yīng)的若干邊緣放置誤差； 根據(jù)所述若干邊緣放置誤差，在若干初始圖形中獲取若干待偏移圖形； 基于各待偏移圖形對(duì)應(yīng)的若干邊緣放置誤差，偏移各待偏移圖形，形成初始修正版圖； 對(duì)所述初始修正版圖進(jìn)行若干次局部光學(xué)鄰近修正，獲取修正版圖； 其中，根據(jù)所述若干邊緣放置誤差，在若干初始圖形中獲取若干待偏移圖形的方法包括：根據(jù)與所述若干缺陷對(duì)應(yīng)的若干邊緣放置誤差，在若干初始圖形中獲取對(duì)應(yīng)的若干待修正線段；在若干待修正線段中，獲取滿足預(yù)設(shè)條件的若干第一指定線段、以及與每個(gè)第一指定線段對(duì)應(yīng)的第二指定線段；將若干第一指定線段和若干第二指定線段所在的若干初始圖形，作為若干待偏移圖形。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)＠麢?quán)人中芯國際集成電路制造(上海)有限公司;中芯國際集成電路制造(北京)有限公司，其通訊地址為：201203 上海市浦東新區(qū)張江路18號(hào)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。