鎧俠股份有限公司中木寬獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉鎧俠股份有限公司申請(qǐng)的專利半導(dǎo)體存儲(chǔ)裝置及其制造方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN114203709B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-19發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202110556696.6,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H10B41/10;該發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體存儲(chǔ)裝置及其制造方法是由中木寬設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2021-05-21向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本半導(dǎo)體存儲(chǔ)裝置及其制造方法在說(shuō)明書摘要公布了:實(shí)施方式提供一種能夠提高可靠性的半導(dǎo)體存儲(chǔ)裝置及其制造方法。根據(jù)實(shí)施方式,半導(dǎo)體存儲(chǔ)裝置包含:多個(gè)第1配線層WL,沿第1方向Z方向積層;第1存儲(chǔ)器柱MP,包含在多個(gè)第1配線層的內(nèi)部沿第1方向延伸的第1半導(dǎo)體層29;第2配線層39,配置在第1半導(dǎo)體層的上方;第2半導(dǎo)體層33,包含配置在第1半導(dǎo)體層與第2配線層之間的第1部分33a、向第1半導(dǎo)體層的上方延伸的第2部分33b、及設(shè)置在第2部分上的第3部分33c;第1絕緣層37,配置在第1部分與第2配線層之間及第2部分與第2配線層之間;及第2絕緣層40,設(shè)置在第1絕緣層上,且與第2部分的一部分相接。
本發(fā)明授權(quán)半導(dǎo)體存儲(chǔ)裝置及其制造方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種半導(dǎo)體存儲(chǔ)裝置,具備: 多個(gè)第1配線層,沿第1方向積層; 第1存儲(chǔ)器柱,包含在所述多個(gè)第1配線層的內(nèi)部沿所述第1方向延伸的第1半導(dǎo)體層; 第2配線層,配置在所述第1半導(dǎo)體層的上方; 第2半導(dǎo)體層,包含配置在所述第1半導(dǎo)體層與所述第2配線層之間的第1部分、向所述第1半導(dǎo)體層的上方延伸的第2部分及設(shè)置在所述第2部分上的第3部分; 第1絕緣層,配置在所述第1部分與所述第2配線層之間及所述第2部分與所述第2配線層之間;及 第2絕緣層,設(shè)置在所述第1絕緣層上,且與所述第2部分的一部分相接。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人鎧俠股份有限公司,其通訊地址為:日本東京;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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