ASML荷蘭有限公司浦凌凌獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉ASML荷蘭有限公司申請的專利在多帶電粒子束檢查中根據檢查圖像的輪廓提取方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115104122B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180014689.1，技術領域涉及：G06T7/00；該發明授權在多帶電粒子束檢查中根據檢查圖像的輪廓提取方法是由浦凌凌;方偉設計研發完成，并于2021-01-27向國家知識產權局提交的專利申請。
本在多帶電粒子束檢查中根據檢查圖像的輪廓提取方法在說明書摘要公布了：公開了一種用于在多帶電粒子束檢查系統中從檢查圖像提取圖案輪廓信息的改進的設備和方法。一種用于從檢查圖像提取圖案輪廓信息的改進方法，包括：根據從帶電粒子束檢查系統獲得的檢查圖像來標識在檢查圖像中部分重疊的第一圖案和第二圖案。該方法還包括：通過從檢查圖像中去除與第二圖案相對應的圖像區域來生成第一分離圖像。第一分離圖像包括第一圖案，當去除與第二圖案相對應的圖像區域時，第一圖案的第一部分被去除。該方法還包括：基于與第一圖案相對應的第一參考圖像，更新第一分離圖像以包括表示第一圖案的被去除的第一部分的圖像數據。
本發明授權在多帶電粒子束檢查中根據檢查圖像的輪廓提取方法在權利要求書中公布了：1.一種用于從檢查圖像提取圖案輪廓信息的方法，所述方法包括： 根據從帶電粒子束檢查系統獲得的檢查圖像，標識在所述檢查圖像中部分重疊的第一圖案和第二圖案； 通過從所述檢查圖像中去除與所述第二圖案相對應的圖像區域來生成第一分離圖像，其中所述第一分離圖像包括所述第一圖案，當去除與所述第二圖案相對應的圖像區域時，所述第一圖案的第一部分被去除；以及 基于與所述第一圖案相對應的第一參考圖像，更新所述第一分離圖像以包括表示所述第一圖案的被去除的所述第一部分的圖像數據， 其中標識所述第一圖案和所述第二圖案包括： 從所述檢查圖像中提取第一圖像補丁，所述第一圖像補丁覆蓋所述第一圖案的部分，其中所述第一圖案的所述部分與所述第二圖案不重疊； 從所述檢查圖像中提取第二圖像補丁，所述第二圖像補丁覆蓋所述第二圖案的部分，其中所述第二圖案的所述部分與所述第一圖案不重疊；以及 將所述第一圖像補丁與所述第一參考圖像相關聯，并且將所述第二圖像補丁與對應于所述第二圖案的第二參考圖像相關聯。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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