北方集成電路技術創新中心(北京)有限公司汪涵獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉北方集成電路技術創新中心(北京)有限公司申請的專利光學鄰近矯正方法及其系統、掩膜版、設備及存儲介質獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114442421B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-19發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202011188200.6，技術領域涉及：G03F1/36；該發明授權光學鄰近矯正方法及其系統、掩膜版、設備及存儲介質是由汪涵;楊蕓;鄭凱;高穎;彭凡珊設計研發完成，并于2020-10-30向國家知識產權局提交的專利申請。
本光學鄰近矯正方法及其系統、掩膜版、設備及存儲介質在說明書摘要公布了：一種光學鄰近矯正方法及其系統、掩膜版、設備及存儲介質，所述光學鄰近矯正方法包括：提供原始圖形；獲取所述原始圖形中的刻蝕窗口；獲取所述刻蝕窗口邊界內側的膜層，作為內側膜層，以及獲取所述刻蝕窗口邊界外側的膜層，作為外側膜層；判斷所述內側膜層的材料和外側膜層的材料是否相同；當所述內側膜層的材料和外側膜層的材料不同時，將所述內側膜層和外側膜層的邊界標記為待處理邊界；沿著垂直于所述待處理邊界且由所述內側膜層指向外側膜層的方向，對所述待處理邊界進行擴展，獲得圖形。本發明實施例有利于增大光刻和刻蝕工藝的窗口，降低出現柵欄缺陷的幾率。
本發明授權光學鄰近矯正方法及其系統、掩膜版、設備及存儲介質在權利要求書中公布了：1.一種光學鄰近矯正方法，其特征在于，包括： 提供原始圖形，所述原始圖形為版圖文件的原始圖形； 獲取所述原始圖形中的刻蝕窗口； 獲取所述刻蝕窗口邊界內側的膜層，作為內側膜層，以及獲取所述刻蝕窗口邊界外側的膜層，作為外側膜層； 判斷所述內側膜層的材料和外側膜層的材料是否相同； 當所述內側膜層的材料和外側膜層的材料不同時，將所述內側膜層和外側膜層的邊界標記為待處理邊界； 沿著垂直于所述待處理邊界且由所述內側膜層指向外側膜層的方向，對所述待處理邊界進行擴展，獲得矯正后的圖形。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人北方集成電路技術創新中心(北京)有限公司，其通訊地址為：102600 北京市大興區北京經濟技術開發區文昌大道18號9幢一層；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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