買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標(biāo)用IPTOP,全免費(fèi)！專利年費(fèi)監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)獲悉ASML荷蘭有限公司申請的專利用于降低機(jī)器學(xué)習(xí)模型預(yù)測中的不確定性的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113168556B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-19發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：201980078859.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06N3/0455；該發(fā)明授權(quán)用于降低機(jī)器學(xué)習(xí)模型預(yù)測中的不確定性的方法是由S·A·米德爾布魯克;M·G·M·M·范克萊杰;M·皮薩倫科設(shè)計研發(fā)完成，并于2019-11-19向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本用于降低機(jī)器學(xué)習(xí)模型預(yù)測中的不確定性的方法在說明書摘要公布了：本文描述了一種用于量化參數(shù)化例如，機(jī)器學(xué)習(xí)模型預(yù)測中的不確定性的方法。該方法包括使參數(shù)化模型預(yù)測來自參數(shù)化模型的針對給定輸入的多個后驗分布。該多個后驗分布包括多個分布中的分布。該方法包括通過從多個分布中的分布采樣來確定針對給定輸入的所預(yù)測的多個后驗分布的可變性；并使用所預(yù)測的多個后驗分布中的所確定的可變性來量化參數(shù)化模型預(yù)測中的不確定性。參數(shù)化模型包括編碼器?解碼器架構(gòu)。該方法包括使用所預(yù)測的多個后驗分布中的所確定的可變性來調(diào)整參數(shù)化模型以降低參數(shù)化模型的不確定性用于預(yù)測晶片幾何、重疊和或其他信息作為半導(dǎo)體制造過程的一部分。

本發(fā)明授權(quán)用于降低機(jī)器學(xué)習(xí)模型預(yù)測中的不確定性的方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于量化針對光刻模擬的參數(shù)化模型預(yù)測中的不確定性的方法，所述方法包括： 使與集成電路制造過程有關(guān)的參數(shù)化模型對來自所述參數(shù)化模型的針對與所述集成電路制造過程有關(guān)的給定輸入的多個后驗分布進(jìn)行預(yù)測，所述多個后驗分布包括多個分布中的分布； 通過從多個分布中的所述分布采樣來確定針對所述給定輸入的所預(yù)測的所述多個后驗分布的可變性； 使用所預(yù)測的所述多個后驗分布中的所確定的所述可變性來量化來自所述參數(shù)化模型的與所述光刻模擬相關(guān)聯(lián)的預(yù)測的不確定性；以及 調(diào)整所述參數(shù)化模型的一個或多個參數(shù)以降低與所述光刻模擬相關(guān)聯(lián)的所述預(yù)測的所述不確定性。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。