朗姆研究公司阿希爾·N·辛格爾獲國家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)獲悉朗姆研究公司申請的專利氣泡缺陷減少獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113016053B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-19發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：201980075195.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/027；該發(fā)明授權(quán)氣泡缺陷減少是由阿希爾·N·辛格爾;巴特·簡·范施拉芬迪克;吉里什·A·迪克西特;大衛(wèi)·C·史密斯;西瓦·克里希南·卡納卡薩巴帕蒂設(shè)計研發(fā)完成，并于2019-11-15向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。
本氣泡缺陷減少在說明書摘要公布了：在一些示例中，一種處理襯底的方法包括：在襯底的表面上施加光致抗蝕劑PR，在PR上沉積或蝕刻金屬氧化物MO層之前，將PR預(yù)先暴露于紫外線UV光，然后在將PR預(yù)先暴露于UV光之后，在PR上沉積或蝕刻MO層。
本發(fā)明授權(quán)氣泡缺陷減少在權(quán)利要求書中公布了：1.一種處理襯底的方法，所述方法包括： 在所述襯底的表面上施加正性光致抗蝕劑PR； 在所述PR上沉積或蝕刻金屬氧化物層之前將所述PR預(yù)先暴露于紫外線光，其中所述預(yù)先暴露所述PR減少氣泡缺陷；以及 在將所述PR預(yù)先暴露于紫外線光之后，在所述PR上沉積或蝕刻金屬氧化物層從而形成間隔物。
如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人朗姆研究公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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1、本報告根據(jù)公開、合法渠道獲得相關(guān)數(shù)據(jù)和信息，力求客觀、公正，但并不保證數(shù)據(jù)的最終完整性和準(zhǔn)確性。
2、報告中的分析和結(jié)論僅反映本公司于發(fā)布本報告當(dāng)日的職業(yè)理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔(dān)任何法律責(zé)任的依據(jù)或者憑證。
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