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龍圖騰網獲悉上海核工程研究設計院有限公司申請的專利基于非支配排序遺傳算法的多目標屏蔽優化方法及系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115374613B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210929887.7，技術領域涉及：G06F30/20；該發明授權基于非支配排序遺傳算法的多目標屏蔽優化方法及系統是由鄭征;王夢琪;梅其良;黎輝;彭超;夏春梅;周巖;史濤;高靜;李翔;高圣欽;毛蘭方設計研發完成，并于2022-08-02向國家知識產權局提交的專利申請。

本基于非支配排序遺傳算法的多目標屏蔽優化方法及系統在說明書摘要公布了：本發明提供一種基于非支配排序遺傳算法的多目標屏蔽優化方法及系統，涉及輻射防護技術領域，包括：生成初始屏蔽方案，并確定出初始屏蔽方案對應的目標函數值；根據目標函數值將多個初始屏蔽方案按照支配關系排序，產生第一代屏蔽方案，對第一代屏蔽方案進行非支配關系排序，再通過遺傳算子產生第二代屏蔽方案；將第一代屏蔽方案和第二代屏蔽方案進行合并排序，得到不同的解集，從各解集中依次選擇屏蔽方案到下一代屏蔽方案，更新下一代屏蔽方案對應的目標函數值，直到滿足終止條件；根據優化后的屏蔽方案，輸出當前輻射屏蔽場景下的屏蔽材料和屏蔽厚度。這樣，可以實現劑量率、屏蔽材料的體積等多個目標的同時優化，提高屏蔽方案的優化效率。

本發明授權基于非支配排序遺傳算法的多目標屏蔽優化方法及系統在權利要求書中公布了：1.一種基于非支配排序遺傳算法的多目標屏蔽優化方法，其特征在于，包括： 根據獲取的輻射屏蔽場景中的源項、屏蔽層數以及各層的屏蔽材料、厚度上下限，生成初始屏蔽方案，并確定出初始屏蔽方案對應的目標函數值；其中，所述屏蔽方案包括屏蔽材料和屏蔽厚度，所述目標函數包括劑量率、屏蔽材料的體積和重量； 根據目標函數值將多個所述初始屏蔽方案按照支配關系排序，產生第一代屏蔽方案，對所述第一代屏蔽方案進行非支配關系排序，再通過遺傳算子產生第二代屏蔽方案并計算相應的目標函數值；將所述第一代屏蔽方案和第二代屏蔽方案進行合并排序，得到不同的解集，從各解集中依次選擇屏蔽方案到下一代屏蔽方案，更新下一代屏蔽方案對應的目標函數值，直到滿足終止條件； 其中，對目標函數增加約束條件和懲罰函數如下： 其中，和分別表示目標函數約束下界和上界，表示懲罰函數； 其中，若目標函數小于下界，目標函數增加一個偏移量，該偏移量表示目標函數偏離下界的程度；若目標函數大于上界，目標函數增加一個偏移量，該偏移量表示目標函數偏離上界的程度； 根據優化后的屏蔽方案，輸出當前輻射屏蔽場景下的屏蔽材料和屏蔽厚度。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人上海核工程研究設計院有限公司，其通訊地址為：200233 上海市徐匯區虹漕路29號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。