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龍圖騰網(wǎng)獲悉長江存儲(chǔ)科技有限責(zé)任公司申請的專利三維存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)及其制造方法、三維存儲(chǔ)器、存儲(chǔ)系統(tǒng)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114497058B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號(hào)為：202210112076.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10B43/30；該發(fā)明授權(quán)三維存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)及其制造方法、三維存儲(chǔ)器、存儲(chǔ)系統(tǒng)是由陳陽;王迪;張中;周文犀設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2022-01-28向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本三維存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)及其制造方法、三維存儲(chǔ)器、存儲(chǔ)系統(tǒng)在說明書摘要公布了：本公開涉及一種三維存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)及其制造方法、三維存儲(chǔ)器、存儲(chǔ)系統(tǒng)。該用于制造三維存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)的方法包括：在襯底上形成疊層結(jié)構(gòu)，其中，疊層結(jié)構(gòu)包括通過堆疊第一材料層和第二材料層形成的多個(gè)堆疊層；在疊層結(jié)構(gòu)中形成多個(gè)接觸孔，接觸孔自疊層結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離襯底的一側(cè)沿多個(gè)堆疊層的堆疊方向延伸，多個(gè)接觸孔包括至少兩組接觸孔；延長每組接觸孔中的至少一個(gè)，使同一組接觸孔中的每個(gè)接觸孔延伸至不同高度位置的第一材料層；延長至少一組的接觸孔，使每組接觸孔中的任一個(gè)接觸孔與其他組接觸孔中的任一個(gè)接觸孔延伸至不同的高度位置；以及在接觸孔中形成導(dǎo)電通道結(jié)構(gòu)。

本發(fā)明授權(quán)三維存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)及其制造方法、三維存儲(chǔ)器、存儲(chǔ)系統(tǒng)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于制造三維存儲(chǔ)結(jié)構(gòu)的方法，其特征在于，包括： 在襯底上形成疊層結(jié)構(gòu)，其中，所述疊層結(jié)構(gòu)包括通過堆疊第一材料層和第二材料層形成的多個(gè)堆疊層； 在所述疊層結(jié)構(gòu)中形成多個(gè)接觸孔，所述接觸孔自所述疊層結(jié)構(gòu)遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè)沿所述多個(gè)堆疊層的堆疊方向延伸，所述多個(gè)接觸孔包括至少兩組接觸孔； 延長每組所述接觸孔中的至少一個(gè)，使同一組所述接觸孔中的每個(gè)所述接觸孔延伸至不同高度位置的所述第一材料層； 延長至少一組的所述接觸孔，使每組所述接觸孔中的任一個(gè)接觸孔與其他組所述接觸孔中的任一個(gè)接觸孔延伸至不同的高度位置； 以及在所述接觸孔中形成導(dǎo)電通道結(jié)構(gòu)； 形成貫穿所述襯底和所述疊層結(jié)構(gòu)的虛擬溝道結(jié)構(gòu)，沿平行于所述襯底表面的方向，所述虛擬溝道結(jié)構(gòu)的貫穿所述襯底的部分的尺寸大于所述虛擬溝道結(jié)構(gòu)的貫穿所述疊層結(jié)構(gòu)的部分的尺寸；相鄰的所述導(dǎo)電通道結(jié)構(gòu)之間具有所述虛擬溝道結(jié)構(gòu)。

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