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龍圖騰網(wǎng)獲悉株式會(huì)社國(guó)際電氣申請(qǐng)的專(zhuān)利基板冷卻單元、基板處理裝置、半導(dǎo)體器件的制造方法、記錄介質(zhì)及基板處理方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專(zhuān)利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN113966547B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-08-22發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專(zhuān)利申請(qǐng)?zhí)?專(zhuān)利號(hào)為：202080042909.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/67；該發(fā)明授權(quán)基板冷卻單元、基板處理裝置、半導(dǎo)體器件的制造方法、記錄介質(zhì)及基板處理方法是由齊藤擇彌;高橋哲;檜山真設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-09-04向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專(zhuān)利申請(qǐng)。

本基板冷卻單元、基板處理裝置、半導(dǎo)體器件的制造方法、記錄介質(zhì)及基板處理方法在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：提供一種技術(shù)，具備：基板保持機(jī)構(gòu)，其水平地保持基板；驅(qū)動(dòng)部，其使基板保持機(jī)構(gòu)升降；冷卻板，其具有與基板的面相對(duì)的相對(duì)面；激光射出部，其設(shè)在基板升降的空間的側(cè)方的一端，射出在基板保持機(jī)構(gòu)升降的方向具有寬度地分布、且與基板的面平行的激光；激光受光部，其設(shè)在空間的側(cè)方的另一端，獲取受光位置確定信息，其中該受光位置確定信息表示基板保持機(jī)構(gòu)升降的方向上的、接受從激光射出部射出的激光的位置；和計(jì)算部，其基于在激光受光部中獲取到的受光位置確定信息，計(jì)算出冷卻板與基板之間的距離。

本發(fā)明授權(quán)基板冷卻單元、基板處理裝置、半導(dǎo)體器件的制造方法、記錄介質(zhì)及基板處理方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種基板冷卻單元，具備： 基板保持機(jī)構(gòu)，其水平地保持基板； 驅(qū)動(dòng)部，其使所述基板保持機(jī)構(gòu)升降； 冷卻板，其具有與由所述基板保持機(jī)構(gòu)保持的所述基板的面相對(duì)的相對(duì)面，且在內(nèi)部設(shè)有供制冷劑流動(dòng)的制冷劑流路； 激光射出部，其設(shè)在由所述基板保持機(jī)構(gòu)保持的所述基板升降的空間的側(cè)方的一端，射出在所述基板保持機(jī)構(gòu)升降的方向具有寬度地分布、且與由所述基板保持機(jī)構(gòu)保持的所述基板的面平行的激光； 激光受光部，其設(shè)在所述空間的側(cè)方的另一端，獲取受光位置確定信息，其中該受光位置確定信息表示所述基板保持機(jī)構(gòu)升降的方向上的、接受從所述激光射出部射出的激光的位置；和 計(jì)算部，其基于在所述激光受光部中獲取到的所述受光位置確定信息，計(jì)算出所述冷卻板的所述相對(duì)面與由所述基板保持機(jī)構(gòu)保持的所述基板的相對(duì)于所述冷卻板的相對(duì)面之間的距離。

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