應用材料公司T·A·恩古耶獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉應用材料公司申請的專利半導體處理系統中的外部基板旋轉獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113611594B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-08-22發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110890839.7，技術領域涉及：H01L21/02；該發明授權半導體處理系統中的外部基板旋轉是由T·A·恩古耶;A·K·班塞爾;J·C·羅查-阿爾瓦瑞茲設計研發完成，并于2016-04-20向國家知識產權局提交的專利申請。
本半導體處理系統中的外部基板旋轉在說明書摘要公布了：公開了一種半導體處理系統中的外部基板旋轉。本文公開一種用于處理半導體的方法和設備。在一個實施例中，公開了一種用于半導體處理的處理系統。處理腔室包括兩個傳送腔室、處理腔室和旋轉模塊。處理腔室耦接至傳送腔室。旋轉模塊定位在傳送腔室之間。旋轉模塊配置成旋轉基板。傳送腔室配置成在處理腔室與傳送腔室之間傳送基板。在另一實施例中，本文公開了一種用于在裝置上處理基板的方法。
本發明授權半導體處理系統中的外部基板旋轉在權利要求書中公布了：1.一種用于處理基板的方法，所述方法包含： 在第一處理腔室中的基板上沉積膜的第一部分； 將所述基板從所述第一處理腔室通過傳送腔室傳送至旋轉模塊； 將所述基板定位在基板支撐組件上，所述基板支撐組件設置在所述旋轉模塊內并且部分地延伸至所述傳送腔室中； 旋轉所述基板預定的量； 將所述基板傳送至第二處理腔室；以及 在所述第二處理腔室中的所述基板上沉積所述膜的第二部分，其中沉積所述第一部分和沉積所述第二部分包括相同類型的沉積工藝。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人應用材料公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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